当社の『Topaz GC注入口ライナー』をご紹介します。
不活性度の高いライナーを選択することで、ゴーストピークの発生、
テーリング、ピーク消失、再現性の悪化などの潜在的なトラブルを防止。
GC用、Agilent GC用があり、各種豊富な製品ラインアップをご用意
しております。ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。
【特長】
■革新的な不活性化処理
■良好な再現性
■生産性の向上
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基本情報
【ラインアップ(一部)】
■スプリット注入 Shimadzu 17A, 2010, 2014, 2030 GC スプリット/スプリットレス注入口用
■スプリットレス注入 Shimadzu 17A, 2010, 2014, 2030 GC スプリット/スプリットレス注入口用
■SPME 注入 Shimadzu 17A, 2010, 2014, 2030 GC スプリット/スプリットレス注入口用
■ダイレクト注入 Shimadzu 17A, 2010, 2014, 2030 GC スプリット/スプリットレス注入口用
■Shimadzu 2010, 2030 PTV注入口用
■Shimadzu 17A PTV注入口用
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
価格帯 | お問い合わせください |
---|---|
納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 |
関連カタログ
お問い合わせ
※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。
Restek 株式会社
- ウェビナー
- リファレンススタンダード
- SPE&SLE
- フューズドシリカカラム
- 注入口ライナー
- 分析LCカラム
- LCガードカラム
- フィルタバイアル
- エアキャニスタ
- 技術文献
- おすすめ情報
- すべての製品・サービス