セトラ社　パーティクルセンサ内蔵環境モニタ　SQM５０００

[粒径区分]
0.3, 0.5, 1.0, 2.5, 5.0, 10.0マイクロメートル
[定格流量]
0.1 CFM(2.83LPM)
[最大粒子濃度]
4,000,000 particles/ft3 ＠5％の計数損失
[光源]
長寿命半導体レーザー
[通信インターフェース]
USB, イーサネット
[本体サイズ LxWxH]
25.4cm x 12.9cm x 11.4cm
[規格]
ISO21501-4・JIS B9921準拠
[使用温度範囲]
5℃～40℃

[粒径区分]
0.3, 0.5, 1.0, 5.0マイクロメートル
[定格流量]
0.1 CFM(2.83LPM), 1.0CFM(28.3 LPM)
[最大粒子濃度]
500,000 particles/ft3 ＠5％の計数損失
[光源]
長寿命半導体レーザー
[通信インターフェース]
Modbus(TM)RTUまたはASCII
[本体サイズ LxWxH]
4.5cm x 9.3cm x 3.8cm
[規格]
ISO21501-4・JIS B9921準拠
[使用温度範囲]
5℃～35℃

[粒径区分]
0.3, 0.5, 1.0, 2.5, 5.0, 10.0マイクロメートル
[定格流量]
0.1 CFM(2.83LPM)
[最大粒子濃度]
500,000 particles/ft3 ＠5％の計数損失
[光源]
長寿命半導体レーザー
[通信インターフェース]
USBまたはイーサネット（標準）
[本体サイズ LxWxH]
13.3cm x 10.5cm x 21cm
[規格]
ISO21501-4・JIS B9921準拠
[使用温度範囲]
5℃～40℃

[粒径区分]
0.3, 0.5, 1.0, 2.5, 5.0, 10.0マイクロメートル
[定格流量]
0.1 CFM(2.83LPM)
[最大粒子濃度]
500,000 particles/ft3 ＠5％の計数損失
[光源]
長寿命半導体レーザー
[通信インターフェース]
USBまたはイーサネット（標準）
[本体サイズ LxWxH]
13.3cm x 10.5cm x 21cm
[規格]
ISO21501-4・JIS B9921準拠
[使用温度範囲]
5℃～40℃

[流量]
0～700Ｌ/ｍｉｎ
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度
[最大使用温度]
不活性ガス中 80℃
CDA(60℃を超える用途)でのフィルター寿命に関してはお問い合わせください
[最大使用圧力]
1.72MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～300Ｌ/ｍｉｎ
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度
[最大使用温度]
不活性ガス中 80℃
CDA(60℃を超える用途)でのフィルター寿命に関してはお問い合わせください
[最大使用圧力]
1.72MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～2100Ｌ/ｍｉｎ
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度
[最大使用温度]
不活性ガス中 80℃
CDA(60℃を超える用途)でのフィルター寿命に関してはお問い合わせください
[最大使用圧力]
1.72MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～2900Ｌ/ｍｉｎ
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度
[最大使用温度]
不活性ガス中 80℃
CDA(60℃を超える用途)でのフィルター寿命に関してはお問い合わせください
[最大使用圧力]
1.72MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～5700Ｌ/ｍｉｎ
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度
[最大使用温度]
不活性ガス中 80℃
CDA(60℃を超える用途)でのフィルター寿命に関してはお問い合わせください
[最大使用圧力]
1.72MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～8550Ｌ/ｍｉｎ
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度
[最大使用温度]
不活性ガス中 80℃
CDA(60℃を超える用途)でのフィルター寿命に関してはお問い合わせください
[最大使用圧力]
1.72MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[0.01ミクロンフィルター]
最大66.6666%のろ過精度（＠0.01ミクロン）
[最大使用温度]
400℃
[最大使用圧力]
1.72MPa
[グラスマイクロファイバー]
100%グラスマイクロファイバー(SUS316Lメッシュで支持)
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec


◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～30Ｌ/ｍｉｎ
[フィルターメディア]
PTFE
[その他材質]
PTFE/FEP/FKM
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003ミクロンのろ過精度
[最大使用温度]
121℃
[最大使用圧力]
20.7MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～8550Ｌ/ｍｉｎ
[フィルターメディア]
PTFE
[その他材質]
フッ素系樹脂/FEP被覆バイトン
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003ミクロンのろ過精度
[最大使用温度]
150℃
[最大使用圧力]
1.72MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～5700Ｌ/ｍｉｎ
[フィルターメディア]
PTFE
[その他材質]
フッ素系樹脂/FEP被覆バイトン
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003ミクロンのろ過精度
[最大使用温度]
150℃
[最大使用圧力]
1.72MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～2900Ｌ/ｍｉｎ
[フィルターメディア]
PTFE
[その他材質]
フッ素系樹脂/FEP被覆バイトン
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003ミクロンのろ過精度
[最大使用温度]
150℃
[最大使用圧力]
1.72MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～2100Ｌ/ｍｉｎ
[フィルターメディア]
PTFE
[その他材質]
フッ素系樹脂/FEP被覆バイトン
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003ミクロンのろ過精度
[最大使用温度]
150℃
[最大使用圧力]
1.72MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～700Ｌ/ｍｉｎ
[フィルターメディア]
PTFE
[その他材質]
フッ素系樹脂/FEP被覆バイトン
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003ミクロンのろ過精度
[最大使用温度]
150℃
[最大使用圧力]
1.72MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～300Ｌ/ｍｉｎ
[フィルターメディア]
PTFE
[その他材質]
フッ素系樹脂/FEP被覆バイトン
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003ミクロンのろ過精度
[最大使用温度]
121℃
[最大使用圧力]
5.16MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～100Ｌ/ｍｉｎ
[フィルターメディア]
PTFE
[その他材質]
フッ素系樹脂/FEP被覆バイトン
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003ミクロンのろ過精度
[最大使用温度]
121℃
[最大使用圧力]
20.7MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇