GasPro 高温ドライガス用　メンブレンガスフィルター　TEM-700

[0.01ミクロンフィルター]
最大66.6666%のろ過精度（＠0.01ミクロン）
[最大使用温度]
400℃
[最大使用圧力]
1.72MPa
[グラスマイクロファイバー]
100%グラスマイクロファイバー(SUS316Lメッシュで支持)
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec


◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～8550Ｌ/ｍｉｎ
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度
[最大使用温度]
不活性ガス中 80℃
CDA(60℃を超える用途)でのフィルター寿命に関してはお問い合わせください
[最大使用圧力]
1.72MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～5700Ｌ/ｍｉｎ
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度
[最大使用温度]
不活性ガス中 80℃
CDA(60℃を超える用途)でのフィルター寿命に関してはお問い合わせください
[最大使用圧力]
1.72MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～2900Ｌ/ｍｉｎ
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度
[最大使用温度]
不活性ガス中 80℃
CDA(60℃を超える用途)でのフィルター寿命に関してはお問い合わせください
[最大使用圧力]
1.72MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～2100Ｌ/ｍｉｎ
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度
[最大使用温度]
不活性ガス中 80℃
CDA(60℃を超える用途)でのフィルター寿命に関してはお問い合わせください
[最大使用圧力]
1.72MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～700Ｌ/ｍｉｎ
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度
[最大使用温度]
不活性ガス中 80℃
CDA(60℃を超える用途)でのフィルター寿命に関してはお問い合わせください
[最大使用圧力]
1.72MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～300Ｌ/ｍｉｎ
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003マイクロメートルのろ過精度
[最大使用温度]
不活性ガス中 80℃
CDA(60℃を超える用途)でのフィルター寿命に関してはお問い合わせください
[最大使用圧力]
1.72MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～30Ｌ/ｍｉｎ
[フィルターメディア]
PTFE
[その他材質]
PTFE/FEP/FKM
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003ミクロンのろ過精度
[最大使用温度]
121℃
[最大使用圧力]
20.7MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～8550Ｌ/ｍｉｎ
[フィルターメディア]
PTFE
[その他材質]
フッ素系樹脂/FEP被覆バイトン
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003ミクロンのろ過精度
[最大使用温度]
150℃
[最大使用圧力]
1.72MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～5700Ｌ/ｍｉｎ
[フィルターメディア]
PTFE
[その他材質]
フッ素系樹脂/FEP被覆バイトン
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003ミクロンのろ過精度
[最大使用温度]
150℃
[最大使用圧力]
1.72MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～2900Ｌ/ｍｉｎ
[フィルターメディア]
PTFE
[その他材質]
フッ素系樹脂/FEP被覆バイトン
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003ミクロンのろ過精度
[最大使用温度]
150℃
[最大使用圧力]
1.72MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～2100Ｌ/ｍｉｎ
[フィルターメディア]
PTFE
[その他材質]
フッ素系樹脂/FEP被覆バイトン
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003ミクロンのろ過精度
[最大使用温度]
150℃
[最大使用圧力]
1.72MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～700Ｌ/ｍｉｎ
[フィルターメディア]
PTFE
[その他材質]
フッ素系樹脂/FEP被覆バイトン
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003ミクロンのろ過精度
[最大使用温度]
150℃
[最大使用圧力]
1.72MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～300Ｌ/ｍｉｎ
[フィルターメディア]
PTFE
[その他材質]
フッ素系樹脂/FEP被覆バイトン
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003ミクロンのろ過精度
[最大使用温度]
121℃
[最大使用圧力]
5.16MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

[流量]
0～100Ｌ/ｍｉｎ
[フィルターメディア]
PTFE
[その他材質]
フッ素系樹脂/FEP被覆バイトン
[3nmフィルター]
多孔質PTFEフィルターで0.003ミクロンのろ過精度
[最大使用温度]
121℃
[最大使用圧力]
20.7MPa
[クリーンルーム製造]
クリーンルームで製造されており、パーティクルフリー、ケミカルフリー、有機物質フリーでのハンドリング作業
[100%ヘリウムリークテスト]
＜1×10 -9 atm cc/sec

◇◇◇詳細は製品カタログをご覧ください◇◇◇

Porvairのガスフィルターは豊富な継手をご用意しています。
継手例：VCR、VCO、コンプレッションフィッティング、面シール、突合せ溶接、NPT、Tri-clamp他

※詳しくはPDFダウンロード、またはお問い合わせください。