株式会社シンアペックス

真空・加圧リフロー炉『VPF200/VPF300』

最終更新日: 2020/08/06
【技術資料付き】最大0.4MPaの加圧で、ボイド率を大幅低減。急速冷却でプロセス効率化。フラックスレスはんだ付けにも対応

『VPF200/VPF300』は、チャンバー内を真空(減圧)状態にできるだけでなく、気圧を0.4MPaまで加圧できるため、はんだ内部のボイド率を大幅に低減、高品質なはんだ付けを実現する真空・加圧リフロー炉です。

チャンバー内の圧力や加熱温度など、ワーク毎にプロセス条件を設定でき、独自の急速冷却機能により、効率的な加熱・冷却が可能。

また、ギ酸還元リフロー、フォーミングガスリフローに対応しており、
フラックスレスのはんだ付けプロセスを構築することもできます。

【特長】
■300×300mmとワイドな有効加熱エリア(VPF300)
■最大加熱温度は450℃
■真空チャンバーは観察用窓を装備
■直感的に操作できるタッチパネルGUIを採用

※「PDFダウンロード」より製品資料をご覧いただけます。
 テストをご希望の方はお気軽にお問い合わせください。

基本情報

<その他の機能>
・プロセス時間を短縮する優れた冷却システム
・ヒーター毎に出力設定が可能な上下加熱機構
・窒素ガスとギ酸を混合するバブラーを装備可
・時間、温度、圧力ベースで柔軟なプロセス構築が可能
・温度と圧力の測定データをPCへ保存可
・真空チャンバー内の温度測定用熱電対6本を装備
・5つのガスラインで柔軟なプロセス構築が可能
・ギ酸濃度モニター(オプション)との連動も可

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
用途/実績例 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

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