【特徴】
・クリーン加熱
・高効率、高速昇温
・出口最高温度 500℃(CLM-0.45で空気流量2~30L/min 条件)
・コンパクト
【用途】
・空気、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガスの高温加熱
・半導体・液晶・有機EL製造設備用の不活性ガス加熱
・分析装置や小型試験機器等の高純度ガス加熱
・燃焼ガス模擬試験のガス加熱
・化学材料生成時の少量添加ガス加熱
・熱処理用加熱炉の雰囲気ガス加熱
・クリーン加熱
・高効率、高速昇温
・出口最高温度 500℃(CLM-0.45で空気流量2~30L/min 条件)
・コンパクト
【用途】
・空気、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガスの高温加熱
・半導体・液晶・有機EL製造設備用の不活性ガス加熱
・分析装置や小型試験機器等の高純度ガス加熱
・燃焼ガス模擬試験のガス加熱
・化学材料生成時の少量添加ガス加熱
・熱処理用加熱炉の雰囲気ガス加熱