竹田印刷株式会社半導体関連マスク事業

『クロムマスク』｜半導体関連フォトマスク

『フォトマスク‐クロムマスク‐』は、耐久性および微細性が高く高精度な意匠形成に有効です。 CSP、FC-CSP、FPC、薄膜チップ部品、磁気ヘッド、他各種パッケージ、ディスプレイ、タッチパネル形成用などの用途にご使用いただけます。【仕様・規格（抜粋）】 ■最大マスクサイズ（mm）：800×800×12t ■ガラス材質：ソーダライム（SL）／石英（QZ） ■膜質：2層低反射クロム膜／その他 ■膜厚（μm）：100～160／その他 ■環境温度による影響：0.8μm/℃/100mm（SL）0.05μm/℃/100mm（QZ） ■環境湿度による影響：なし ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
メタルマスク製品カタログ

電子部品実装用メタルマスク、半導体パッケージ用精密版、ディスプレイ用マスクの開発・製造・販売を行っております。高アスペクト、連続印刷に適した微小部品連続印刷用「SHGメタルマスク」をはじめ、「SMT実装用メタルマスク」や「PROマスク/ナノマスク」などを掲載しています。 ※弊社グループであるプロセス・ラボ・ミクロンの製品カタログです。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。