[技術資料を無料公開中!]導電層が静電破壊を抑制!高い歩留まり率で、安定した品質・コスト・納期を実現
当社の『静電破壊対策用Crガラスマスク』は、帯電物が接近してもパターン破壊が起こりにくいフォトマスクです。
大量の露光回数に対しても、破損することなく1枚で対応可能です。
マスクの取り替えにかかっていたコストを削減できるほか、安定した生産スピードを維持できるため、生産効率アップにも貢献します。
また、豊富な静電破壊対策仕様品の量産の経験を活かし、
一般仕様品と同等の工期で、高い除電性能のフォトマスクを提供いたします!
【静電破壊対策用Crガラスマスクの特長】
■帯電した人や設備が接近しても破損しづらい
■高い防汚性・清掃性
■微細性に優れ、高精度な意匠形成が可能
■電子部品のフォトマスクやキャリブレーションプレートに
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
【仕様】
◎最大マスクサイズ:800×800×12t
◎コート厚み:0.125μm
◎精度ランク
・Mode-A':最狭 0.75L/Sμm / 短寸法精度 ±0.075μm / 長寸法精度 ±0.5μm
・Mode-A :最狭 1.0L/Sμm / 短寸法精度 ± 0.1μm / 長寸法精度 ±1.0μm
・Mode-B :最狭 2.0L/Sμm / 短寸法精度 ± 0.2μm / 長寸法精度 ±2.0μm
・Mode-C :最狭 3.0L/Sμm / 短寸法精度 ± 0.5μm / 長寸法精度 ±1.5μm
・Mode-D :最狭 5.0L/Sμm / 短寸法精度 ± 0.5μm / 長寸法精度 ±2.0μm
・Mode-E :最狭 8.0L/Sμm / 短寸法精度 ± 1.5μm / 長寸法精度 ±4.0μm
【用途】
◎PWB・FPC・電子部品などのパターン原版
◎キャリブレーションプレート(測定・装置の調整)
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
◎最大マスクサイズ:800×800×12t
◎コート厚み:0.125μm
◎精度ランク
・Mode-A':最狭 0.75L/Sμm / 短寸法精度 ±0.075μm / 長寸法精度 ±0.5μm
・Mode-A :最狭 1.0L/Sμm / 短寸法精度 ± 0.1μm / 長寸法精度 ±1.0μm
・Mode-B :最狭 2.0L/Sμm / 短寸法精度 ± 0.2μm / 長寸法精度 ±2.0μm
・Mode-C :最狭 3.0L/Sμm / 短寸法精度 ± 0.5μm / 長寸法精度 ±1.5μm
・Mode-D :最狭 5.0L/Sμm / 短寸法精度 ± 0.5μm / 長寸法精度 ±2.0μm
・Mode-E :最狭 8.0L/Sμm / 短寸法精度 ± 1.5μm / 長寸法精度 ±4.0μm
【用途】
◎PWB・FPC・電子部品などのパターン原版
◎キャリブレーションプレート(測定・装置の調整)
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
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竹田東京プロセスサービス株式会社