温度に余裕があるため、温度が上がりづらい場所も含め、完全に不純物の除去が可能
水素分子を結晶粒界に入れないで結晶成長を促す為には、高真空環境下である 必要がありました。またカリウムドープタングステンを2次再結晶成長 させる為にはワークその物を2000℃以上にする必要も同時にありました。 その為、自社で装置そのものから開発。初号機はワーク温度2000℃までを 達成。その後の3号機では2800℃まで達成しました。 当装置は、ハロゲンランプ部品製造のみならず、 様々な超高温処理が必要な製造に利用されています。 特に、医療用部品や、超高圧水銀灯用電極のアルミナなどの強固な 不純物除去には欠かせないものとなっています。 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
水素分子を結晶粒界に入れないで結晶成長を促す為には、高真空環境下である 必要がありました。またカリウムドープタングステンを2次再結晶成長 させる為にはワークその物を2000℃以上にする必要も同時にありました。 その為、自社で装置そのものから開発。初号機はワーク温度2000℃までを 達成。その後の3号機では2800℃まで達成しました。 当装置は、ハロゲンランプ部品製造のみならず、 様々な超高温処理が必要な製造に利用されています。 特に、医療用部品や、超高圧水銀灯用電極のアルミナなどの強固な 不純物除去には欠かせないものとなっています。 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。