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テルモセラ・ジャパン株式会社 最新ニュース

テルモセラ・ジャパン株式会社 注目製品情報

  • ◇◆◇【nanoPVD】卓上型スパッタリング装置◇◆◇
    nanoPVD_寸法:750(W) x 580(D) x 600(H)mm 重量:約70kg
    研究開発用DC/RFマグネトロン方式スパッタリング装置です。 高性能・多機能にも関わらず、実験室の限られたスペースにもフィットするスモールフットプリント。 高解像度7inch前面タッチパネルによる簡単操作。 膜質に妥協のないハイスペック卓上スパッタリング装置です。 ◉ nanoPVDは、3源カソード+O2&N2追加ガス2系統(MFC制御)、RF/DC PSUの増設(最大2電源まで)同時成膜、など以下の多目的なご用途でお使い頂くことができます。 ・絶縁膜 ・導電性膜 ・化合物 ・コンビナトリアル(*Binary)他 【主な特徴】 ◉ 対応基板:2inch(1〜3源)、もしくは4inch(1源) ◉ 2inchマグネトロンカソードx最大3源 ◉ タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統(標準) + 反応性ガス N2, O2増設(オプション) ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでライブデータをロギング。 ◉ 他、多彩なオプションを用意
    最終更新日:2017-01-06 03:02:31.0
  • ◉MiniLab-WCF/WMF超高温ウエハー焼成炉2200℃
    MiniLab-WCF/WMF超高温ウエハーアニール炉 製品画像
    ◉Max2200℃(真空中1x10-5Torr, N2, Ar) ◉WCF使用雰囲気:真空・不活性ガス(カーボン炉) ◉WMF使用雰囲気:真空・不活性・還元ガス(メタル炉) ◉試料台サイズφ2inch〜φ8inch ◉特注ウエハーホルダ(ウエハートレー)製作可能 ◉SiC・GaNデバイス基礎研究、新素材・新材料開発、及びその他先端基礎技術開発部門で活用いただけます。
    最終更新日:2017-01-06 03:02:31.0
  • 【セラミック・トップ・ヒーターMax1800℃】1〜12inch
    基板加熱ヒーター(AlN)の製品画像です
    基板加熱ヒーター (窒化アルミプレート)Max 1800℃ 対応可能サイズ 1〜12inch用、及び最大φ800まで ヒーターエレメント:NiCr線(標準)、トッププレート材質:AlN(窒化アルミ)を採用した超高温・加熱効率に優れた成膜実験・製造装置用超高温基板加熱ヒーター(真空ホットプレート)です。(詳細はカタログダウンロードからお問合せ下さい。) プロセス条件により、多種類のヒーター素線・材料を選択可能。 AlN以外に、石英プレート、インコネルプレートも製作可能
    最終更新日:2017-01-06 03:02:31.0

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