テルモセラ・ジャパン株式会社

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Φ1inch BHヒーター製品写真
超高温薄膜実験用基板加熱ヒーター『BHシリーズ』※カタログ進呈
MAX1600℃・安価・短納期!大学実験室・研究機関のお客様限定製品
最終更新日:2017-12-05 14:34:39.0

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注目製品情報

  • ANNEAL
    ◆ANNEAL◆ 卓上型ウエハーアニール装置
    高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ) ・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2)
  • nanoPVD_寸法:750(W) x 580(D) x 600(H)mm 重量:約70kg
    【nanoPVD-S10A】卓上型マグネトロンスパッタリング装置
    研究開発用DC/RFマグネトロン方式スパッタリング装置です。 高性能・多機能にも関わらず、実験室の限られたスペースにもフィットするスモールフットプリント。 高解像度7inch前面タッチパネルによる簡単操作。 膜質に妥協のないハイスペック卓上スパッタリング装置です。 ◉ nanoPVDは、3源カソード+O2&N2追加ガス2系統(MFC制御)、RF/DC PSUの増設(最大2電源まで)同時成膜、など以下の多目的なご用途でお使い頂くことができます。 ・絶縁膜 ・導電性膜 ・化合物 ・コンビナトリアル(*Binary)他 【主な特徴】 ◉ 対応基板:2inch(1〜3源)、もしくは4inch(1源) ◉ 2inchマグネトロンカソードx最大3源 ◉ タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統(標準) + 反応性ガス N2, O2増設(オプション) ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでライブデータをロギング。 ◉ 他、多彩なオプションを用意

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