テルモセラ・ジャパン株式会社

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【Mini-BENCH 】超高温小型卓上実験炉 Max2200℃ 製品画像
【Mini-BENCH 】超高温小型卓上実験炉 Max2200℃
卓上サイズカーボン実験炉・省スペース 最高使用温度2200℃(短時間)2000℃(連続) 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
最終更新日:2019-01-14 01:28:55.0

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注目製品情報

  • 【nanoPVD-S10A】卓上型マグネトロンスパッタリング装置 製品画像
    【nanoPVD-S10A】卓上型マグネトロンスパッタリング装置
    高機能 ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa(*1x10-4Paまで最速30分!) ● スパッタ源 x 3:連続自動成膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション:上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ● Windows PCにUSB接続 ログ保存、プログラムアップロード ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統(MFC制御)、RF/DC PSUの増設(最大2電源まで)連続・同時成膜、など多目的にお使い頂くことができます。 ・絶縁膜 ・導電性膜 ・化合物、他 【主な特徴】 ◉ 対応基板:2"(1〜3源)、もしくは4"(1源) ◉ 2"カソード x 最大3源 ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統(標準) + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング。 ◉ 他、多彩なオプションを用意
  • 【Mini-BENCH 】超高温小型卓上実験炉 Max2200℃ 製品画像
    【Mini-BENCH 】超高温小型卓上実験炉 Max2200℃
    ◉ 卓上サイズ 省スペース:328(W) x 220(D) x 250(H)mm ◉ るつぼ内サンプル焼成用(るつぼΦ50 x 100), 又はΦ1", Φ2"ウエハー焼成用フラットヒーター ◉ ハイスペック&ハイコストパフォーマンス ◉ 簡単メンテナンス:炉内部品交換が容易 ◉ シンプルな構成、メンテナンス性に優れる超高温小型実験炉 実験室での小片試料の超高温加熱実験、新素材研究開発などのさまざまな試料加熱実験が、簡単な操作で行えます。 不活性ガス,真空雰囲気中にて最高温度2200℃を達成! 本体は小型でありながらよりさまざまな分野の研究開発にお使いいただけます。
  • 【クリーン・テント】 製品画像
    【クリーン・テント】
    収縮式簡易クリーンルーム「Clean Tent」 (開発元Moorfield Nanotechnology社) 短時間(最短30分!)で容易に施工が可能。 テント本体は畳んで専用バッグに収納、撤収持ち運びが簡単。

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