テルモセラ・ジャパン株式会社

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  • ◆nanoPVD-T15A◆ 卓上型高性能真空蒸着装置
    卓上小型サイズにも関わらず、基本性能・膜質・均一性・操作性の全てを犠牲にせず、スタンドアローン大型機と同様の性能を実現しました。 更に簡単タッチパネル操作でPLC全自動制御。 難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分かりやすいHMI。 USBケーブルでWindows PCに接続し、ログを保存、自動成膜レシピを作成保存。 限られた開発現場・ラボスペースを最大限有効活用ができる省スペース設計・メンテナンス性にも優れた小型卓上真空蒸着装置です。
  • ホットステージ【基板加熱機構】
    【ホットステージ】超高温基板加熱ユニット Max1800℃
    半導体、電子基板、真空成膜プロセス装置・研究開発用【超高温基板加熱機構】 対応基板サイズ:2〜12inch 真空(UHV可能)・不活性ガス・O2・各種プロセス反応性ガス雰囲気等でご仕様いただけます。(詳細別途協議)
  • MiniLab-WCF/WMF超高温ウエハーアニール炉 製品画像
    ◉MiniLab-WCF/WMF超高温ウエハー焼成炉2200℃
    ◉Max2200℃(真空中1x10-5Torr, N2, Ar) ◉WCF使用雰囲気:真空・不活性ガス(カーボン炉) ◉WMF使用雰囲気:真空・不活性・還元ガス(メタル炉) ◉試料台サイズφ2inch〜φ8inch ◉特注ウエハーホルダ(ウエハートレー)製作可能 ◉SiC・GaNデバイス基礎研究、新素材・新材料開発、及びその他先端基礎技術開発部門で活用いただけます。

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