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2024-03-18 00:00:00.0
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半導体, 電子基板等の真空薄膜実験用途に最適!
真空装置内でのシリコン, 化合物, サファイア基板等の加熱・成膜実験用に活用いただけます。
CVD, スパッタリング等の真空装置用超高温Max1800℃基板加熱ヒーター
プロセスに応じたエレメント、材料の選定が可能
◉ Maxエレメント温度
◎ 真空中:1000℃(NiCr),1200℃(Gr),1800℃(C/C)
◎ 大気中:500℃…
ニュース一覧
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2024-03-18 00:00:00.0
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★☆★☆【MiniLab-026】R&D開発用 小型薄膜実験装置★☆★☆
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必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。
マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(…
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2024-03-18 00:00:00.0
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【SHシリーズ 基板加熱ヒーター_Max 850℃】CVD, PVD薄膜実験用に最適
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テルモセラ・ジャパン【基板加熱ヒーター】CVD, PVD等の薄膜実験用に最適な1inch〜4inch超高温基板加熱ヒーターのカタログの最新版に更新しました。
◉ 最高使用温度850℃(SH-IN)、1100℃(SH-BN)
基板ホルダ、上下昇降機構・基板回転機構・RFバイアスなどのカスタマイズ品…
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2024-03-18 00:00:00.0
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□■□■【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃ □■□■
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卓上サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃
還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
◉ 卓上 省スペース:328 x 220 x 250mm
◉ るつぼ内サンプル焼成用(るつぼΦ50 x 100), 又はΦ1"〜Φ4"ウエハー焼成用
◉ ハイスペック&…
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2024-03-18 00:00:00.0
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【Lab6放電プラズマ生成ヒーターユニット】C/Cコンポジットヒーター
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◉ 超高温Max1800℃円筒状加熱ヒーター
ご指定の仕様にて都度製作致します。
* 従来の金属ヒーターでは不可能だった高温領域が必要なアプリケーションに応用検討下さい。
◎ 使用可能環境:真空中, 不活性ガス中 etc..
◎ 発熱体:Graphite, C/Cコンポジットヒーター、など。…
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2024-03-18 00:00:00.0
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☆★☆【nanoETCH】ソフトエッチング装置☆★☆
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<30W低出力制御によるダメージレスエッチング
出力制御精度 10mWで、低出力にもかかわらず精密で安定したプラズマ処理。
2010年グラフェン発見でノーベル賞受賞者率いる マンチェスター大学グラフェン研究グループとの共同開発製品。
【特徴】
• 2D(遷移金属カルゴゲナイド, 材料転写…
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2024-03-18 00:00:00.0
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【MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉】Max 2000℃_ウエハー高温焼成専用(4inch〜8inch)
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SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応 小規模生産も可能なマルチ雰囲気ウエハーアニール装置
◉Max2000℃
◉3種類のヒーター材質:
・高純度グラファイト:Φ6〜Φ8inch
・SiC3(炭化珪素)コーティング:Φ4〜Φ8inch
・TiC3(チタン・カ…
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2024-03-18 00:00:00.0
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★【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置★ テルモセラ・ジャパン
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コンパクト/省スペース、ハイスペック
60ℓ容積 蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールを組込みことができる、様々な用途に対応可能なマルチ薄膜実験装置
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2024-03-18 00:00:00.0
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★☆★☆【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置★☆★☆
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MiniLab薄膜実験装置は、豊富なオプションから必要な成膜方法・材質に応じて都度最適なコンポーネント、制御モジュールを組み込むことにより、セミカスタムメイドで無駄を省いたコンパクトな装置を構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で搭載することにより応用範囲…
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2024-03-18 00:00:00.0
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BHシリーズ【UHV対応 超高温 真空薄膜実験用基板加熱ヒーター】Max1900℃
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3種類のサイズ(Φ1, 2, 4inch)4種類のヒーター素線材質(Kanthal, Graphite, SiC, W)に限定して標準化、短納期・安価な価格を実現しました。
大学実験室・研究機関に限定した製品です。
【特徴】
● 予備ヒーター素線との交換が容易
● 取り扱いが簡単(M6ス…
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2024-03-18 00:00:00.0
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★☆★☆【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置★☆★☆
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小型・省スペース! 有機薄膜開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等全ての作業をグローブボックス内でシームレスに行う事ができます。
有機EL, 有機薄膜太陽電池, 有機薄膜太陽電池, 又, グラフェン・2D材料(遷移金属ダイカルコゲナイドなどの二次元層状無機ナノ材料)などの開発プロセスでは、酸素・水…
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2024-03-18 00:00:00.0
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★【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置★ テルモセラ・ジャパン
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コンパクト/省スペース、ハイスペック
60ℓ容積 蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールを組込みことができる、様々な用途に対応可能なマルチ薄膜実験装置
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2024-03-18 00:00:00.0
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◉Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃
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最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉
◉有効加熱範囲:Φ2inch〜Φ4inch
◉PLCセミオートコントロール
卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種
「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を…
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2024-03-18 00:00:00.0
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【MiniLab】 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム
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2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ - 蒸着、など)をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能(写真下)。
1. MiniLab-E080A(蒸着装置)
・EB蒸着:7ccるつぼ…
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2024-03-18 00:00:00.0
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☆★☆スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】☆★☆
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スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに金属蒸着・有機蒸着・スパッタカソードを設置
抵抗加熱蒸着源(金属蒸着)、有機蒸着源(有機材料)、マグネトロンスパッタ(金属・絶縁材)、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です…
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2024-03-13 00:00:00.0
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ホットステージ【基板加熱機構】超高温基板加熱ステージ Max1800℃_Φ2〜Φ4inch
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半導体, 電子デバイス等の開発, 真空薄膜プロセス用【高温基板加熱機構】
シリコン基板, サファイア基板, 化合物基板他様々な成膜実験用に活用いただけます。
CVD, スパッタ等の真空装置用超高温Max1800℃基板加熱条件に応じたエレメント、材料の選定が可能
◉ 超高真空・不活性ガス・O2・…
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