テルモセラ・ジャパン株式会社

製品ニュース

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15件
  • 2024-10-15 00:00:00.0
    製品ニュースホットステージ【基板加熱機構】超高温基板加熱ステージ Max1800℃_Φ2〜Φ6inch
    半導体, 電子デバイス等の開発, 真空薄膜プロセス用【高温基板加熱機構】
    シリコン基板, サファイア基板, 化合物基板他様々な成膜実験用に活用いただけます。
    CVD, スパッタ等の真空装置用超高温Max1800℃基板加熱条件に応じたエレメント、材料の選定が可能
    ◉ 超高真空・不活性ガス・O2・…
  • 2024-10-15 00:00:00.0
    製品ニュース□■□■【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃ □■□■
    卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃

    ◆装置構成◆
    予算・目的に応じてご要望の構成をご提案致します。
    (A)最小構成：チャンバー + 温度制御ユニット
    (B)上記最小構成(A) + 真空排気系（ポンプ、ゲージ、バルブ・真空配管類）

    ◉ 円筒状ヒーター：るつぼ内…
  • 2024-10-15 00:00:00.0
    製品ニュース☆★☆【nanoETCH】ソフトエッチング装置☆★☆
    ＜30W低出力制御によるダメージレスエッチング
    出力制御精度10mWで、繊細なエッチング処理を実現。
    2010年グラフェン発見でノーベル賞受賞者率いる マンチェスター大学グラフェン研究グループとの共同開発製品。

    【特徴】
    • 2D（遷移金属カルゴゲナイド, 材料転写後のグラフェン剥離）：…
  • 2024-10-15 00:00:00.0
    製品ニュース【MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉】Max 2000℃_ウエハー高温焼成専用（6inch〜8inch）
    Max2000℃ Φ6〜8inchウエハー専用高温アニール装置 小規模生産も可能なマルチ雰囲気ウエハーアニール装置

    ◾️ Max2000℃
    ◾️ 有効加熱範囲：Φ6〜Φ8inch 枚葉式、又はバッチ式（多段5枚カセット）
    ◾️ ヒーター制御：1ゾーン、又は2ゾーン（カスケード制御）
    ◾️…
  • 2024-10-15 00:00:00.0
    製品ニュース☆★☆★【nanoCVD-8G】グラフェン合成装置 ☆★☆★
    ◉ コールドウオール式による高効率・高精度プロセスコントロール
    ◉ 急速昇温：1100℃/約3分間
    ◉ 高精度温度制御：±1℃
    ◉ 高精度APC自動圧力制御システム：ガス3系統（Ar, H2, CH4）
    ◉ グラフェン作成用標準レシピ付属
    ◉ コンパクトサイズ：405(W) x 415(…
  • 2024-10-15 00:00:00.0
    製品ニュース◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
    OLED, OPV, OTFT等の有機薄膜蒸着用途に最適。温度応答性/安定性に優れた低温有機蒸着源、金属膜用高温蒸着源を採用。

    簡単タッチパネル操作でPLC全自動制御、操作性・メンテナンス性にも優れたR&D用真空蒸着装置。
    難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分か…
  • 2024-10-15 00:00:00.0
    製品ニュース◆HTEヒーター◆ 高真空るつぼ加熱ヒーター Max1500℃
    HTEヒーターは最高使用温度1500℃の真空装置用高温加熱ヒーターです。
    蒸発温度の高い材料も蒸発することができますので、低温有機蒸着（～ 800℃）セルから高温抵抗加熱蒸着（～ 1500℃）MBEセルまで、真空高温ヒーター・蒸着セルとして幅広い様々な用途に活用頂けます。
    シャッター・アクチュエ…
  • 2024-10-15 00:00:00.0
    製品ニュース☆★☆ 【TCF-C500 超高温小型実験炉】Max 2900℃ ☆★☆
    コンパクト・省スペース・省エネルギー！ 高性能 R&D用超高温実験炉
    小片試料を最高2900℃まで加熱実験ができるR&D用超高温小型実験炉。
    実験室での超高温加熱実験、新素材開発などのさまざまな焼成実験を行うことができます。

    ◆主な特徴◆
    ・省スペース
    ・ロータリー…
  • 2024-10-15 00:00:00.0
    製品ニュース★☆★☆【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置★☆★☆
    MiniLab薄膜実験装置は、豊富なオプションから必要な成膜方法・材質に応じて都度最適なコンポーネント、制御モジュールを組み込むことにより、セミカスタムメイドで無駄を省いたコンパクトな装置を構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で搭載することにより応用範囲…
  • 2024-10-15 00:00:00.0
    製品ニュース★☆★☆【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置★☆★☆
    小型・省スペース! 有機薄膜開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等全ての作業をグローブボックス内でシームレスに行う事ができます。
    有機EL, 有機薄膜太陽電池, 有機薄膜太陽電池, 又, グラフェン・2D材料（遷移金属ダイカルコゲナイドなどの二次元層状無機ナノ材料）などの開発プロセスでは、酸素・水…
  • 2024-10-15 00:00:00.0
    製品ニュース★【マグネトロンスパッタリングカソード】★ テルモセラ・ジャパン
    不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率マグネトロンスパッタカソード。メンテナンス性にも優れます。
    【特徴】
    ・高真空対応
    ・Φ2inch、Φ3inch、Φ4inchサイズ
    ・クランプリング式を採用、ボンディングが不要
    ・メンテナンス性に優れ、容易にターゲッ…
  • 2024-10-15 00:00:00.0
    製品ニュース◉Mini-BENCH-prism セミオート式 超高温実験炉 Max2000℃
    ◉最高使用温度 Max2000℃
    ◉PLCセミオートコントロール
    卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種
    「真空/パージサイクル」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御
    最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース…
  • 2024-10-15 00:00:00.0
    製品ニュースウエハーアニール装置【ANNEAL】Max1000℃ APC自動圧力制御 MFC x3系統 Φ4〜6inch基板対応
    Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）

    [ANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。

    高真空水冷式SUSチ…
  • 2024-10-15 00:00:00.0
    製品ニュース◾️◾️真空用【CH 超高温円筒状ヒーター】Max1800℃ ◾️◾️
    真空用 超高温円筒状ヒーターユニット 最高温度1800℃（グラファイト、C/Cコンポジット）
    ご要望の仕様にて都度製作致します。
    さまざまな用途に応用できる高真空中での円筒状加熱ユニットです。
    円筒状加熱範囲内に、試料を入れた坩堝の加熱、金属・セラミック・ワイヤー状サンプルの加熱、など目的に応…
  • 2024-10-15 00:00:00.0
    製品ニュース◆OLED◆ 有機蒸着・高温用金属蒸発源 Max1500℃
    OLED蒸発源は最高使用温度1500℃の真空装置用高温加熱ヒーターです。
    蒸発温度の高い材料も蒸発することができますので、低温有機蒸着（～ 800℃）セルから、高温抵抗加熱蒸着（～ 1500℃）MBEセルまで、真空高温ヒーター・蒸着セルとして幅広い様々な用途に活用いただけます。
    シャッター・アク…
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