テルモセラ・ジャパン株式会社

◉ Nanofurnace "BWS-NANO" 熱CVD装置 一覧

多目的に使える、高精度プロセスコントロール【ホットウオール式熱CVD装置】
◉ 最高使用温度 1100℃
◉ グラフェン, カーボンナノチューブ
◉ ZnOナノワイヤ
◉ SiO2等の絶縁膜など
その他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに活用いただけます。
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