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研究開発用途に特化した『省スペース』『高機能』『低価格』な真空薄膜実験装置を揃えております。
◉ nanoPVD-S10A マグネトロン式スパッタリング装置
◉ nanoPVD-T15A 有機膜・金属膜蒸着装置
◉ nanoPVD-ST15A 蒸着・スパッタ複合型成膜装置
◉ nanoCVD-8G/8N グラフェン/CNT合成装置
◉ nanoETCH ソフトエッチング装置
◉ Mini-BENCH超高温小型卓上実験炉
◉ Mini-BENCH-prism超高温小型実験炉
いずれもコンパクトな装置でありながら、決して性能は妥協しない高性能装置です。
今後も研究開発分野に寄与すべく新装置ラインナップを拡充する予定です。
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- 【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃
- 卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 最終更新日：2024-10-12 15:40:07.0
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- ◆Mini-BENCH-prismセミオート式 超高温実験炉◆
- 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 最終更新日：2024-10-12 16:15:11.0
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- 真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』
- 卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 最終更新日：2024-10-12 15:40:36.0
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- 真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
- 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 最終更新日：2024-10-12 16:14:45.0
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- アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』
- Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）
- 最終更新日：2024-10-12 15:51:43.0
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- アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
- 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 最終更新日：2024-10-12 16:13:36.0
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