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研究開発用途に特化した『省スペース』『高機能』『低価格』な真空薄膜実験装置を揃えております。
◉ nanoPVD-S10A マグネトロン式スパッタリング装置
◉ nanoPVD-T15A 有機膜・金属膜蒸着装置
◉ nanoPVD-ST15A 蒸着・スパッタ複合型成膜装置
◉ nanoCVD-8G/8N グラフェン/CNT合成装置
◉ nanoETCH ソフトエッチング装置
◉ Mini-BENCH超高温小型卓上実験炉
◉ Mini-BENCH-prism超高温小型実験炉
いずれもコンパクトな装置でありながら、決して性能は妥協しない高性能装置です。
今後も研究開発分野に寄与すべく新装置ラインナップを拡充する予定です。
- 表示件数
- 30件
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- 薄膜実験装置_「PRODUCTS GUIDE 2022」
- 半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装置、薄膜実験装置を紹介。
- 最終更新日：2023-09-15 14:38:25.0
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- 【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置
- 高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置
- 最終更新日：2023-09-15 14:16:58.0
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- ◆nanoPVD-T15A◆ 高性能 有機膜・金属膜蒸着装置
- 限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。
- 最終更新日：2023-09-15 14:31:02.0
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- 【nanoCVD-8G/8N】グラフェン/CNT合成装置
- ◉ 大型製造装置設備を使わず、短時間で容易にグラフェン・CNT（SWNT）合成実験が可能 ◉ 1バッチわずか30分！
- 最終更新日：2023-09-15 14:33:46.0
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- ◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置
- Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）
- 最終更新日：2023-09-15 14:42:44.0
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- 【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置
- 【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能CVD装置
- 最終更新日：2023-08-26 16:32:53.0
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- 【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
- モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
- 最終更新日：2023-09-20 11:54:31.0
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- □■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□
- 小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
- 最終更新日：2023-09-20 12:24:55.0
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- □■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□
- 蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み立てることができるセミカスタムメイド薄膜実験装置
- 最終更新日：2023-09-20 21:04:04.0
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- □■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□
- 蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
- 最終更新日：2023-09-16 10:31:15.0
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- □■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□
- グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
- 最終更新日：2023-09-16 10:32:22.0
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- 【MiniLab-026/090】グローブボックス薄膜実験装置
- 小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全ての作業をグローブボックス内でシームレスに行う事ができます。
- 最終更新日：2023-09-15 14:05:23.0
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- 【マグネトロンスパッタリングカソード】
- 不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率マグネトロンスパッタカソード。メンテナンス性にも優れます。
- 最終更新日：2023-09-15 14:39:56.0
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- 【Mini-BENCH 】超高温卓上型実験炉 Max2000℃
- 卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 最終更新日：2023-08-26 17:11:01.0
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- ◆Mini-BENCH-prismセミオート式 超高温実験炉◆
- 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 最終更新日：2023-08-26 16:36:02.0
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- 真空炉『Mini-BENCH 超高温卓上型実験炉』
- 卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 最終更新日：2023-08-27 23:55:12.0
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- 真空炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
- 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 最終更新日：2023-08-27 23:56:21.0
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- アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』
- Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）
- 最終更新日：2023-09-15 14:42:16.0
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- アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
- 最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 最終更新日：2023-04-01 17:18:48.0
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- 表示件数
- 30件