テルモセラ・ジャパン株式会社

【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

最終更新日: 2023-09-20 11:54:31.0

  • カタログ

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。

【フレキシブルシステム】
MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。
MiniLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。

【スモールフットプリント・省スペース】
・シングルラックタイプ(MiniLab-026):590(W) x 590(D)mm
・デュアルラックタイプ(MiniLab-060):1200(W) x 590(D)mm
・トリプルラックタイプ(MiniLab-125):1770(W) x 755(D)mm

【優れた操作性・直観的操作画面】
Windows PC、または7”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。

関連動画

【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置 構成モジュール】
◉ 製作範囲
抵抗加熱蒸着(TE)、有機膜蒸着(LTE)、電子ビーム蒸着(EB)、RF/DCスパッタリング(SP)、T-CVD/PE-CVD、プラズマエッチング(RIE)
◉ チャンバー
・026(26Litter)-TE/LTE/SP/CVD/Etch/*Globe Box option:MaxΦ6inch
・060(60Litter)-TE/LTE/EB/SP/Etch/:MaxΦ8inch
・080(80Litter)-TE/LTE/EB/SP/Etch/:MaxΦ10inch
・090(90Litter)*Globe Box option -TE/LTE/EB/SP/Etch/:MaxΦ10inch
・125(125Litter)-TE/LTE/EB/SP/Etch/CVD:MaxΦ12inch

※ その他仕様は当社ホームページ参照下さい。
価格情報 -
お気軽にお問い合わせください。
納期 お問い合わせください
※ お気軽にお問い合わせください。
用途/実績例 主な用途
・新素材/新材料の開発
・先端技術開発
・小規模試作生産
など

詳細情報

MiniLab-026-TE/LTE/SP
MiniLabシリーズ最小の、19inchシングルラックフレームスタンドアロン型薄膜実験装置。幅600 奥行き600の最小設置スペースの小型サイズに、TE(抵抗加熱蒸着)、 LTE(有機薄膜蒸着)、 SP(スパッタリング)実験が可能。小型ながらPID自動ループ成膜コントロール(手動も可)、同時成膜も可能。

MiniLab-026_iPROS.jpg

MiniLab-026-GB(グローブボックス収納型)
MiniLab-026チャンバーを作業ベンチ内に設置、制御ユニットをベンチ下に収納したグローブボックスモデル。

MiniLab-026-GB.jpg

MiniLab-026-Etch/Anneal Station
MiniLab-026チャンバーに、RFドライエッチングステージ・基板加熱ステージを搭載した装置。全てをMiniLabシリーズ19inchラックフレームに収納したスタンドアロン、グローブボックス収納したMiniLab-026-GBの応用型の2機種。マンチェスタ大学グラフェンGrとの共同開発品。独自の30W以下での低ダメージ・制御精度に優れたRIEシステムとの組合せでTMDC・2D開発に寄与します。

ML-Etch_Anneal-Station.jpg

MiniLab-060-TE/LTE/EB/Sputtering装置
『MiniLab-060』シリーズは、豊富なコンポーネントをモジュラー式に組み込むことにより、TE(抵抗加熱蒸着)、LTE(低温有機膜蒸着)、EB蒸着、RF/DCマグネトロンスパッタなどの幅広い目的に構成することができるR&D用装置です。上下昇降/基板回転/加熱・冷却ステージ・ロードロックなどのオプションも豊富。( 写真は6 pockets蒸着源を搭載したEBモデル)

MiniLab-060_iPROS.jpg

MiniLab-060 PECVD装置
『MiniLab-060-PECVD』は、4系統までのガスライン、 RF/DC電源ユニット, 基板加熱・回転ステージ(Max1200℃)を搭載したセミオート式プラズマCVD専用機。60L容積チャンバーに、RP(DP)+TMP搭載した高真空仕様に対応、安定したPLC/MFCによる真空・ガス圧力自動制御が行えます。ウエハーサイズ1~8inchまでの成膜実験が可能です。

MiniLab-PECVD_iPROS.jpg

MiniLab-080-TE/LTE/SP
ボックス型チャンバー:チャンバー高さ570mm、80リットル大型チャンバーにロードロック機構を追加できるMiniLab-060の上位機種。T/S距離調整幅が長く膜均一性の向上に寄与。

MiniLab-080_iPROS.jpg

MiniLab-090(*グローブBox収納型)
400x400x570の大型80L大容積チャンバーを作業ベンチ内に収納したMini-Lab-080のグローブボックスモデル。スライドドア開閉フロントローディング式、チャンバー背面からアクセスできるメンテナンス用ドア、大チャンバーながら作業ベンチを最大限活用した省スペース・ハイスペックモデル。真空蒸着・スパッタ・RFエッチなど多目的に使用いただけます。プロセス処理後のサンプルを大気・水分に露出せずクリーンな薄膜実験が可能です。

MiniLab-090_iPROS.jpg

MiniLab-125
大型大容積チャンバー(500x500x600mm)にMiniLabシリーズ全てのオプション搭載可能。研究開発から小規模生産用途までカバーするMiniLabシリーズの最上位フラッグシップモデル。ロードロックシステム・オートマスクチェンジャー・プラネタリードームなどのオプションが豊富。

MiniLab-125_iPROS.jpg

関連ダウンロード

【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

お問い合わせ

下記のフォームにお問い合わせ内容をご記入ください。
※お問い合わせには会員登録が必要です。

至急度  [必須]
ご要望  [必須]
目的  [必須]
添付資料
お問い合わせ内容 
【ご利用上の注意】
お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。
はじめてイプロスをご利用の方 はじめてイプロスをご利用の方 すでに会員の方はこちら
イプロス会員(無料)になると、情報掲載の企業に直接お問い合わせすることができます。
メールアドレス

※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。

テルモセラ・ジャパン株式会社

ページの先頭へ