最終更新日:
2021-04-28 09:26:23.0
R＆D活動および工業規模での量産用に設計！カスタムメイドのリアクターツールを提供しています
原子層堆積（ALD）はCVDの中でも特別なコーティング方法になります。
ALDプロセスにおける補完的で自己制限的な表面反応は、ナノメートル
スケールまで制御された厚さの均一なフィルムと、複雑な3D表面形状への
優れたステップカバレッジを備えたコンフォーマルフィルムを提供。
ALD処理のために、FHR AnlagenbauGmbHは、R＆D活動および工業規模での
量産用に設計されたカスタムメイドのリアクターツールを提供しています。
【コーティング方法】
■少なくとも2つの化学反応物（前駆体）の交互の基板露光によって実行
■最初の1つの前駆体が基板上にフラッシュ
■前駆体は、未反応の表面部位がなくなるまで（飽和）、反応性の表面部位と反応
■最初の前駆体のガス状反応残留物が不活性ガスでパージ
■2番目の前駆体がフラッシュされ再び表面反応が起こり、飽和に達するまで置く
■反応をパージした後、2番目の前駆体の残留物の場合、最初の前駆体を
フラッシュすることでサイクルを再開
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基本情報
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