東邦化研株式会社

とってもわかりやすい『薄膜Q&A』

最終更新日: 2022-08-29 17:34:14.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

各コーティング方法の解説や事例付きガイドブック『薄膜Q&A』を進呈中!
【掲載内容】
■真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング、プラズマCVDの違いは何ですか?
■それぞれの方式の特徴は何ですか?
■どんなコーティングができますか?
■コーティングする対象物のさいずや形状、材質に制限はありますか?
■特定の部位にコーティングしたいのですが…
■費用はどのように計算されますか
■少量の試作・開発でも対応可能ですか?将来的な量産も相談可能ですか?
■納期はどれくらいかかりますか?
■コーティング後の検査は可能ですか?
 ほか

※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

関連情報

薄膜加工技術の解説付きガイドブック『薄膜Q&A』を無料進呈中!
薄膜加工技術の解説付きガイドブック『薄膜Q&A』を無料進呈中! 製品画像
【掲載内容】
■真空蒸着、イオンプレーティング、スパッタリング、プラズマCVDの違いは何ですか?
■それぞれの方式の特徴は何ですか?
■どんなコーティングができますか?
■コーティングする対象物のさいずや形状、材質に制限はありますか?
■特定の部位にコーティングしたいのですが…
■費用はどのように計算されますか
■少量の試作・開発でも対応可能ですか?将来的な量産も相談可能ですか?
■納期はどれくらいかかりますか?
■コーティング後の検査は可能ですか?

樹脂フィルムへの成膜加工
樹脂フィルムへの成膜加工 製品画像
■対応膜種
 金属膜:Al、Au、Ag、Cu、Ni、Cr、Mg、B、Ti、Zr、Nb、Mo、Pd、In、Si、Ta、W、Sn、Pt など
 積層膜:Au/Ni/Cr、Au/Pt/Ti、Au/Pd/Ti、Au/Cr、Cu/Cr など
 酸化膜:Al2O3、SiO2、TiO2、Cr2O3、ITO、MgO、NbO、Ta2O5、WO3、ZrO2、ZnO など
 窒化膜:AlN、BN、CrN、MoN、NbN、SiN、TaN、TiN など
 炭化膜:SiC、TiC、BC など

■最大搭載可能サイズ:800×1000mm
※小型装置から大型装置まで幅広く保有しております。

■対応可能基板
 ・Si Wafer
 ・ガラス
 ・フィルム
 ・セラミックス
 ・金属材
  他
大面積への成膜加工! ガラス…フィルム…セラミック…金属材…
大面積への成膜加工! ガラス…フィルム…セラミック…金属材… 製品画像
■対応膜種
 金属膜:Al、Au、Ag、Cu、Ni、Cr、Mg、B、Ti、Zr、Nb、Mo、Pd、In、Si、Ta、W、Sn、Pt など
 積層膜:Au/Ni/Cr、Au/Pt/Ti、Au/Pd/Ti、Au/Cr、Cu/Cr など
 酸化膜:Al2O3、SiO2、TiO2、Cr2O3、ITO、MgO、NbO、Ta2O5、WO3、ZrO2、ZnO など
 窒化膜:AlN、BN、CrN、MoN、NbN、SiN、TaN、TiN など
 炭化膜:SiC、TiC、BC など
※使用装置によって変わりますので、ご相談ください。

■最大搭載可能サイズ:800×1000mm
※小型装置から大型装置まで幅広く保有しております。

■対応可能基板
 ・Si Wafer
 ・ガラス
 ・フィルム
 ・セラミックス
 ・金属材
  他
厚膜成膜
厚膜成膜 製品画像
■対応膜種
 金属膜:Al、Au、Ag、Cu、Ni、Cr、Mg、B、Ti、Zr、Nb、Mo、Pd、In、Si、Ta、W、Sn、Pt など
 積層膜:Au/Ni/Cr、Au/Pt/Ti、Au/Pd/Ti、Au/Cr、Cu/Cr など
 酸化膜:Al2O3、SiO2、TiO2、Cr2O3、ITO、MgO、NbO、Ta2O5、WO3、ZrO2、ZnO など
 窒化膜:AlN、BN、CrN、MoN、NbN、SiN、TaN、TiN など
 炭化膜:SiC、TiC、BC など
※使用装置によって変わりますので、ご相談ください。

■最大搭載可能サイズ:800×1000mm
※小型装置から大型装置まで幅広く保有しております。

■対応可能基板
 ・Si Wafer
 ・ガラス
 ・フィルム
 ・セラミックス
 ・金属材
  他
立体形状への成膜加工
立体形状への成膜加工 製品画像
■対応膜種
 金属膜:Al、Au、Ag、Cu、Ni、Cr、Mg、B、Ti、Zr、Nb、Mo、Pd、In、Si、Ta、W、Sn、Pt など
 積層膜:Au/Ni/Cr、Au/Pt/Ti、Au/Pd/Ti、Au/Cr、Cu/Cr など
 酸化膜:Al2O3、SiO2、TiO2、Cr2O3、ITO、MgO、NbO、Ta2O5、WO3、ZrO2、ZnO など
 窒化膜:AlN、BN、CrN、MoN、NbN、SiN、TaN、TiN など
 炭化膜:SiC、TiC、BC など
※使用装置によって変わりますので、ご相談ください。

■最大搭載可能サイズ:800×1000mm
※小型装置から大型装置まで幅広く保有しております。

■対応可能基板
 ・Si Wafer
 ・ガラス
 ・フィルム
 ・セラミックス
 ・金属材
  他

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