最終更新日:
2017-09-08 10:38:33.0
大気放出できない装置から排出される有害排気ガスを安全に除害処理します。現地での排気ガス成分分析による処理剤設計もします。
乾式除害装置「ＭＡＫシリーズ」は、排気ガス中の有害成分を化学処理剤トムクリーンと反応させ、安全な化合物に変えて処理剤内に固定し、弊社にて産業廃棄物として処理されます。
トムクリーンを処理対象成分に合わせて選択することにより、多種多様な排気ガスに対応できます。
基本情報
【幅広い対応範囲】
各種処理剤がラインナップされており、各種プロセスの排気ガスに
最も適した処理剤の選定ができます。
また、弊社横浜研究所の現地分析により、
フィールドでの排気分析結果に基づいた処理剤設計も可能です。
【低圧損】
圧力損失の少ない処理剤充填方法を採用し、
装置内の圧力損失を0.1KPa以内に制御。
これにより専用排気ブロワーを不要化、ランニングコストを低減します。
【管理性】
剤破過検知器（ブレイクモニター）のサンプリング位置を
自動切換することにより、剤交換時期を正確に管理することができます。
【安全性】
・排気ガス部材質は、処理対象ガス及び反応温度を考慮した材質を使用。
・固定生成物が排気ガス中に混在している場合も、バグフィルターで除去が可能です。
・排気ガス処理ラインにはフルボアタイプのバルブを使用し、装置内での
閉塞が起こりにくい構造となっています。
・処理剤破過検知のほかに、装置内圧力・処理剤温度等を
常時モニタリングし、異常発生時に警報を発報します。（一部オプション）
| 価格帯 | お問い合わせください |
|---|---|
| 納期 | お問い合わせください |
| 用途／実績例 | 下記装置及びガス種に対応します。 Ionインプラ装置： AsH3、PH3、BF3 CVD装置： NH3、TiCl4 、SiH2Cl2、WF6、SiF4、HCl、HF、F2 、TEOS、CO 、SiH4、PH3、AsH3、B2H6 Etching装置：BCl3、HCl、HBr、F2、SiF4、WF6 、Cl2、BCl3、HBr チャンバークリーニング： HF、F2、SiF4、COF2、OF2 上記以外のガスについてはお問い合わせください。 |
ラインナップ
| 型番 | 概要 |
|---|---|
| MAK-025 | 最大流量40(L/min) |
| MAK-040 | 最大流量60(L/min) |
| MAK-060 | 最大流量90(L/min) |
| MAK-100 | 最大流量120(L/min) |
| MAK-550 | 最大流量250(L/min) |
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