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最終更新日:
2023-02-07 17:59:51.0
上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
数マイクロ秒でのフォーミング、長年にわたる耐久性
TruPlasma Highpulse 4000 (G2)シリーズの電力供給装置は、高出力インパルスマグネトロンスパッタリング向けに専用設計されています。硬く均質で滑らかなコーティングは、機能的にも装飾的にも最適です。TruPlasma Highpulse 4000（G2）シリーズが生み出す独特なイオン特性は、金属イオンエッチング（スパッタリング前処理）や半導体用途（トレンチ充填）にも利用できます。
【主な利点】
■ 飛沫フリーのスパッタリング、薄膜の不具合の低減
■ コンパクトな寸法、容易なシステム統合
■ 既存の陰極およびプロセス要件に簡単に適応可能
細かい仕様についてはカタログをダウンロードいただきご覧ください。
（関連ワード：プラズマ放電,DC電源,直流,金属イオンエッチング,コーティング,薄膜,スパッタ,アークエネルギー,ジェネレータ）
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トルンプ株式会社
