ユーシー・ジャパン株式会社

【高周波洗浄ユニット:用途例】半導体製造工程

最終更新日: 2024-06-26 09:07:17.0
出力が低い所でも安定した性能を維持!繊細な部品洗浄にも適しています。

半導体製造工程において「高周波洗浄ユニット」を
ご提案いたします。

スパッター装置や、CVD装置などをお使いのお客様で、冶具の再生を
メーカー等に依頼されていらっしゃる方も多いと思います。

特定のお客様では、超音波で部品にダメージを与えてしまうケースがあります。

当社の超音波は、出力が低い所でも安定した性能を維持できるので
そのような、繊細な部品洗浄にも適しています。

希少金属や、金などをより多く回収し、同時に冶具のクリーン度、
金属イオンの完全除去など様々な周波数の超音波を駆使して
洗浄品質向上をお手伝いします。

【特長】
■洗浄槽が大型になるケースが多い洗浄槽内で、均一なパワーの分布を実現
■幅広い出力調整幅で洗浄力を最適化

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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