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【半導体業界事例】レジスト液の這い上がり防止技術『ナノプロセス』

UPDATE   最終更新日: 2024-11-18 08:06:44.0
吸着搬送治具へのレジスト液のはいあがりを防止できるコーティング事例をご紹介します。

精密な基盤にレジスト液を塗布する装置部品への表面処理の事例をご紹介します。

■ご相談
フィルム状の薄い基板にレジスト液を塗布する工程で、
吸着治具にレジスト液が精密な基盤にレジスト液を塗布する工程でのご相談でした。

■お悩み
フィルム状の薄い基板にレジスト液を塗布する工程で、
吸着治具にレジスト液が付着して、次に搬送される基板に治具のレジスト液がくっついてしまう問題が発生。
基板へのレジスト液の付着は製品不良になるため、
搬送治具の清掃頻度を増やさざるを得ず、生産性も上がりませんでした。

■ご要望
問題を解決するため当初はテフロンTMコーティングで試作しましたが、
コーティングのわずかな表面の凹凸が薄い基板に模様として転写し、
製品不良となってしまいました。
問題解決には精密性とレジスト液の付着防止を両立させる表面処理が
必要でした。

【解決課題】
・レジスト液の付着
・清掃時間
・コーティングの厚みムラ

■採用コーティング
『ナノプロセス(R) TC-10』

※詳しい解決の内容はPDFをダウンロードしてご覧頂くかお問い合わせください。

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基本情報

【ナノプロセスの特長】

■精密性
■変化のない可視光線透過率
■高い撥水性・撥油性
■耐熱性
■高い非粘着性
■低温加工性
■液体の滑落性に優れる
■高い寸法定性
■親水性

※詳しい解決の内容はPDFをダウンロードしてご覧頂くかお問い合わせください。

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型番・ブランド名 ナノプロセス(R)
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