平板型赤外線加熱炉　IR-FP Series

最終更新日： 2017-01-05 13:03:56.0

カタログ

赤外線集光加熱により秒速・高温・均一加熱が可能です。お客様のニーズに合わせて製作致します。

「IR-FP Series」は、Max1100℃まで加熱可能な平板型の赤外線加熱炉です。
各ゾーンごとの出力調整が可能なため、色々な温度環境での加熱が可能です。
クリーンな加熱で真空対応やガスフロー、観察も可能です。シリコンウエハ、化合物半導体及び薄版鋼板加工の加熱に最適です。
樹脂やフィルム、接着剤の耐熱・変形・観察の用途に使用できます。
試料サイズにより炉サイズの対応が可能です。

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

【基本構成】
○加熱炉本体
○試料ホルダー（石英ホルダー、熱電対1式）
○温度コントローラ

【オプション】
○炉内部真空対応
○ガス冷却機構
○真空排気系
○灼熱板
○冷却水循環装置
○CCDカメラ及び観察系

【主要仕様】
○温度範囲：RT~1100℃※
○加熱特性：30℃/秒※
○加熱方式：赤外線反射集光加熱
○冷却方式：自然冷却
○雰囲気：大気、オーバーパージ(オプションにより真空中及びガスフロー中も可能)
○加熱可能範囲：100×100mm～100×200ｍｍ程度、3インチ～6インチ
○温度センサー：K又はR熱電対
○温度制御：デジタルプログラムPID-SCR制御
○温度プログラム：99プログラム、99セグメント
○安全対策：炉体水冷、保安措置付き
※加熱対象の熱容量によって変わります。

●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

価格情報	お問い合わせください
納期	お問い合わせください ※ お問い合わせください
用途／実績例	●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。

お問い合わせ

下記のフォームにお問い合わせ内容をご記入ください。
※お問い合わせには会員登録が必要です。

至急度 [必須]	通常至急
ご要望 [必須]	購入希望見積もり希望カタログ送付希望価格表送付希望事例送付希望連絡希望訪問希望その他
目的 [必須]	新規購入既存入れ替え仕様確認購入検討中情報収集中顧客への提案
添付資料
お問い合わせ内容	【ご利用上の注意】お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。