株式会社アントンパール・ジャパン

In -Situ X線回折用 サンプルステージ

最終更新日: 2023-07-14 12:23:38.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

カタログ発行日:2023/7
In-Situ X線回折用 サンプルステージ
In-Situ X線回折用
サンプルステージ

関連情報

全自動多目的X線回折装置: XRDynamic 500
全自動多目的X線回折装置: XRDynamic 500 製品画像
XRDynamic 500のTruBeam TMコンセプトは、大型のゴニオメーター半径、真空ビームパス、完全に自動化されたX線光学系/ビーム配置の変更機能を組み合わせ、卓越したデータ品質を実現します。直感的に使えるソフトウェアと最適化されたワークフローにより、さまざまな装置構成で多様なサンプルを測定できます。標準のBragg-Brentano構成で、クラス最高の分解能(1番目のLaB6標準ピークでFWHM <0.021°)を達成します。測定バックグラウンドを最大50 %低減し、空気散乱を最小限に抑えることで、優れたS/N比を実現しています。最適化された非大気下でのXRD測定の構成、およびSAXS専用機の品質を備えたSAXS測定用の構成に素早く切り替えることができます。
In-situ XRD用 サンプルステージ
In-situ XRD用 サンプルステージ 製品画像
・温度範囲: 下記またはカタログを参照ください。
・雰囲気: 空気、不活性ガス、真空(一部、反応性ガスに対応)
・測定配置:反射または透過(製品ごとに異なります)
・製品の詳しい情報はお問い合わせください

【ラインナップ】
直接加熱方式
・HTK2000N (室温 ~ 2300℃)
・HTK16N (室温 ~ 1600℃)
・TTK600 (-190 ~ 600℃)
・CHC plus+ (-180 ~ 400℃、 湿度制御可能)
・BTS500 (室温 ~ 500℃、 卓上XRDに対応)
・BTS150 (-10 ~ 150℃、 卓上XRDに対応)
・DHS1100 (室温 ~ 1100℃、 4軸回折計に対応)
・DCS500 (-180 ~ 500℃、 4軸回折計に対応)

非接触加熱方式
・HTK1200N (室温 ~ 1200℃、 キャピラリー装着可能)
・XRK900 (室温 ~ 900℃、 反応性ガス使用可能)

各製品の特徴はカタログをご覧ください。
XRD装置
XRD装置 製品画像
アントンパール社の高精度XRD装置は、お客様の用途に合わせて最適化された測定構成により、常にクラス最高のデータ品質を実現します。高品質のX線源と優れたX線光学系、最新の検出器技術、多様なサンプルステージを採用しております。

アントンパール社の包括的なXRDソリューションは、どのようなアプリケーションにも対応できる汎用性の高い装置セットアップを提供します。XRDynamic 500の斬新なTruBeam TMコンセプトでは、すべての光学部品とアライメント調整を完全に自動化しています。つまり、ボタンをクリックするだけで装置構成を完全に変更することができ、残りの作業は回折装置自身が代わりに行ってくれます。高度な自動化と直感的なワークフローにより、XRDを初めて使う人でも、高品質なデータを圧倒的な効率で収集することができます。

アントンパール社のXRDソリューションは、装置の稼働率が高く、メンテナンスコストが低く、信頼性の高い運用が可能です。堅牢な設計のアントンパール社のXRD装置は、高い測定スループットを維持し、目標通りに高品質のデータを安定して得ることができます
【HTK 1200】XRD装置用高温チャンバー
【HTK 1200】XRD装置用高温チャンバー 製品画像
代表的なアプリケーション
・構造解析
・温度膨張係数
・相図の調査
・化学反応研究
・動的構造変化の観測
・格子定数測定

温度範囲 : 25~1200℃
雰囲気 : 空気、不活性ガス、真空(10⁻⁴mbar)
測定配置 : 反射及び透過
【HTK 2000N】XRD装置用超高温チャンバー
【HTK 2000N】XRD装置用超高温チャンバー 製品画像
代表的なアプリケーション
・構造解析
・温度膨張係数
・相図の調査
・化学反応研究
・動的構造変化の観測
・格子定数測定

温度範囲 : 25~2300℃
雰囲気 : 空気、不活性ガス、酸素、真空(10⁻⁴mbar)
測定配置 : 反射
【TTK 600】XRD装置用中低温チャンバー
【TTK 600】XRD装置用中低温チャンバー 製品画像
代表的なアプリケーション
・構造解析
・温度膨張係数
・相図の調査
・化学反応研究
・動的構造変化の観測
・格子定数測定

温度範囲 : -190 °C ~ 600 °C
圧力範囲 :≤ 10-4 mbar ~ 2 bar rel.
雰囲気 :空気、 真空、 不活性ガス

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