株式会社アントンパール・ジャパン

半導体産業における工場排水のリサイクルと処理<アプリケーションレポート>

最終更新日: 2024-08-08 11:52:17.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

カタログ発行日:2024/07
測定値と組み合わせたプロセス密度測定を行えば、排水処理プロセスのリアルタイム制御が可能になり、法規制値の遵守が保証されます。
半導体産業で使用されるプロセス化学品は、通常NH3、H2S、NOxなどの溶存ガスを含んでおり、都市排水システムに放出する前に処理しなければなりません。

行政処分などを避けるには、溶存アンモニアを排水から除去する必要があります。

サンプル測定、デモ機、詳細情報のご希望など、お気軽にご相談ください。

関連:半導体産業

関連情報

液体密度計 L-Dens 7400 プロセス用
液体密度計 L-Dens 7400 プロセス用 製品画像
【L-Dens 7400の仕様】
密度レンジ  最大 3000kg/m3
温度レンジ  -40 ~ 125℃
SIP温度    145℃ (最大30分)
サンプル   液体、液化ガス、スラリー
耐圧(絶対圧)最大 50bar (HP仕様で 180bar)※接続方法にも依存
密度再現性  0.02 kg/m3(※タンタルの場合:0.05 kg/m3)
温度精度   0.1℃
接液材質   HAS 仕様: ハステロイC-276
       ステンレス仕様: ステンレス1.4404 (SUS316L相当)
センサー内径 6.3mm
環境温度   HMI付: -40 ~ 65 ℃
       HMI無: -40 ~ 70 ℃
湿度     0 ~ 90 %RH (結露なし)
保護等級   IP 66 / NEMA 4X
供給電圧   SELV DC 24 V ± 20%

※この製品は、オンライン液体用振動式密度計・プロセス液体密度計・流体プロセス液体密度アナライザ・プロセス用精密密度センサです。また、真密度が測定できるセンサで、コリオリ式・浮子式・質量流量式ではありません。
比重・濃度モニター L-Dens 7400 プロセス用
比重・濃度モニター L-Dens 7400 プロセス用 製品画像
【L-Dens 7400の仕様】
密度レンジ  最大 3000kg/m3
温度レンジ  -40 ~ 125℃
SIP温度    145℃ (最大30分)
サンプル   液体、液化ガス、スラリー
耐圧(絶対圧)最大 50bar (HP仕様で 180bar)※接続方法にも依存
密度再現性  0.02 kg/m3(※タンタルの場合:0.05 kg/m3)
温度精度   0.1℃
接液材質   HAS 仕様: ハステロイC-276
       ステンレス仕様: ステンレス1.4404 (SUS316L相当)
センサー内径 6.3mm
環境温度   HMI付: -40 ~ 65 ℃
       HMI無: -40 ~ 70 ℃
湿度     0 ~ 90 %RH (結露なし)
保護等級   IP 66 / NEMA 4X
供給電圧   SELV DC 24 V ± 20%

※この製品は、オンライン液体用振動式密度計・プロセス液体密度計・流体プロセス液体密度アナライザ・プロセス用精密密度センサです。また、真密度が測定できるセンサで、コリオリ式・浮子式・質量流量式ではありません。

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