半導体フォトリソプロセス関連装置、特に特殊塗布技術を提供いたします。高圧ジェットリフトオフ装置も取り扱っております。
フォトレジストの塗布・露光・現像装置をメインとし、両面露光装置等、フォトリソグラフィープロセス全般および関連プロセス装置の設計・製造・販売を行っております。
特に、凹凸やV溝のある基板または、角基板や不定形基板への均一性の高い塗布技術を有しております。さらに、高圧ジェットNMPによるバリ、メタルの再付着の発生の無い剥離・リフトオフ装置を開発し、販売しております。
その他、ポリイミド・PBF・OCD・WAX等各種塗布装置、高温ベーキング装置、スピンドライヤー装置等取り扱っております。
お客様の仕様・予算により装置をカスタマイズしてお作りしております。
また、各種ウェハ、基板等の販売も行っております。
企業概要
会社名 | 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ |
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設立 | 1999年2月 |
資本金 | 4000万円 |
従業員数 | 30名 |
所在地 | 〒331-0056
埼玉県 さいたま市西区 三条町27-1 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ TEL:048-871-8305 FAX:048-871-8306 |
事業内容
半導体製造装置の製造販売
半導体素子製造用材料の販売
半導体素子の製造販売
半導体素子製造に関するコンサルティング及びマーケティング業務