中国精油株式会社

ポストキュア不要・二次加硫不要 シリコーン製品紹介

最終更新日: 2021/04/20

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

精製技術を活用!当社開発品を使用する事でポストキュア(二次加硫)工程は不要になります
中国精油株式会社は、永年培ってきた精製技術を活用して、低分子シロキサンを含まないシリコーンの製造に成功しました。シリコーンゴム成型後にシリコーンゴム中の低分子シロキサンを取り除く工程(ポストキュア工程)が必要ですが、当社開発品を使用することでポストキュア工程は不要になります。

例えば、付加架橋タイプの場合、Si-H、Si-Viの両方の低分子シロキサンを予め除去していますので、付加反応で得られたシリコーンゴム中に低分子シロキサンは含まれません。また、予めSi-H、Si-Vi中の低分子シロキサンを除去していますので、シリコーンゴム使用中に低分子シロキサンがブリードすることも抑制できます。

新規シリコーン製品 ラインナップ(抜粋)
メチルハイドロジェンポリシロキサン:CHUSIL60MH(揮発分0.1%以下)
両末端ビニルジメチルシリコーン:CHUSIL200VT(揮発分0.1%以下)
両末端ビニルジメチルシリコーン:CHUSIL100VTS(揮発分0.1%以下、低分子シロキサン100ppm以下)

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

関連情報

低分子シロキサン除去 シリコーン製品紹介
低分子シロキサン除去 シリコーン製品紹介 製品画像
【その他 新規シリコーン製品 ラインアップ】
■メチルハイドロジェンシリコーンオイル(低分子シロキサンD3 D10:50ppm以下)
■両末端ビニル変性ポリフェニルメチルシロキサン(低分子シロキサン対策品)

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『低分子シロキサン除去シリコーン』※新開発
『低分子シロキサン除去シリコーン』※新開発 製品画像
【新規シリコーン製品 ラインアップ(抜粋)】
メチルハイドロジェンポリシロキサン:CHUSIL60MH(揮発分0.1%以下)
両末端ビニルジメチルシリコーン:CHUSIL200VT(揮発分0.1%以下)
両末端ビニルジメチルシリコーン:CHUSIL100VTS(揮発分0.1%以下、低分子シロキサン100ppm以下)

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