上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
GaNおよびIII族窒化物にpドーピングを行うプロセスシミュレーションの事例
有機金属気相成長法(MOCVD)のプロセスシミュレーターPROCOMシミュレーションでp-タイプ伝導率の問題に取組む。膜成長中のMg取込みをコントロールするのが重要。シミュレーションは複雑なドーピングプロセスおよびMOCVDプロセスの最適化を補助。異なるタイプのアクセプターも本ソフトウェアによってシミュレーション可能。
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クロスライトソフトウェアインク日本支社
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