クロスライトソフトウェアインク日本支社

抵抗スイッチングメモリ(Resistive Switching Memory Model using NovaTCAD)

最終更新日: 2020-05-12 11:48:45.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

NovaTCADでの抵抗スイッチングメモリのモデリング事例
抵抗スイッチングメモリのシミュレーションにおいて、O2の拡散をモンテカルロシミュレーションで解きます。温度によるO2の生成と結合の活性化、格子間サイトのO2ホッピング、Poole-Frenkel de-trappingモデルを用いたオフリーク電流、電極でのO2の吸収および放出、電場や温度依存性を伴う物理ベースの確率、クロスライト独自のMiniSpiceモデルを回路ノードに作りこんだO2サイトの表現。このような抵抗スイッチングの物理プロセスを、モデリングから解析までをNovaTCADで全て行えます。

関連情報

半導体デバイス用汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトAPSYS
半導体デバイス用汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトAPSYS 製品画像

<インターフェイス>
■構造入力、結果表示のためのツールを標準装備
■独自のスクリプト言語で記述、GUIやコマンドラインから実行が可能
■バッチファイルやスクリプト言語によるプログラム制御が可能

<材料マクロ>
■化合物 (InGaAsNSb, AlGaAsSb, InAs, InAlAs, InP, InGaAlAs, etc.)
■窒化物 (GaN, InGaN, AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.)
■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.)
■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.)
■絶縁体 (air(空気), vacuum(真空), TiO2, AlAs-oxide, sapphire, etc.)
■有機物 (BPhen, BCzVBiドープCBP,CuPc, LiF, etc.)
■その他 (GaP, CdS, ZnTe, ZnSe, ZnS, etc.)

【動画】半導体デバイス用2D/3D解析・設計ソフトAPSYS
【動画】半導体デバイス用2D/3D解析・設計ソフトAPSYS 製品画像

<インターフェイス>
■構造入力、結果表示のためのツールを標準装備
■独自のスクリプト言語で記述、GUIやコマンドラインから実行が可能
■バッチファイルやスクリプト言語によるプログラム制御が可能

<材料マクロ>
■化合物 (InGaAsNSb, AlGaAsSb, InAs, InAlAs, InP, InGaAlAs, etc.)
■窒化物 (GaN, InGaN, AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.)
■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.)
■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, Al, Sn, Pb, etc.)
■絶縁体 (air(空気), vacuum(真空), TiO2, AlAs-oxide, sapphire, etc.)
■有機物 (BPhen, BCzVBiドープCBP,CuPc, LiF, etc.)
■その他 (GaP, CdS, ZnTe, ZnSe, ZnS, etc.)

オプション説明一覧 (APSYS)
オプション説明一覧 (APSYS) 製品画像

3次元電流流れオプション、3次元ベンドメッシュ、アドバンスドk.p摂動モデル、アドバンスドオプティクスモデル/ポンプレーザ、Csupremビルダー/メッシュインターフェイス、エキシトン/多体効果オプション、FDTDインターフェイス、Franz-Keldyshモデルなど様々なオプションや物理モデルについて紹介。

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