製品ニュース
掲載開始日:
2018-11-13 00:00:00.0
2018 年11 月 ( 東京都文京区) – 米国Edmund Optics(R) (EO) の日本法人、
エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社は、極端紫外 (EUV) 用平面ミラーの発売を開始しました。
このミラーは、精密研磨された多層膜ミラーで、設計波長と入射角 (AOI) で反射率が最大となるようデザインされています。
EUV 放射のビームステアリングや高調波分離用に適してます。
【特長】
■13.5nm で最大反射率
■CDI および材料科学の研究に好適
※詳しくは下記詳細ページをご覧いただくか、お気軽にお問合せください。
関連資料
- PR_極端紫外 (EUV) 用平面ミラー.pdf[181KB]
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エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社