最終更新日:
2024-07-30 16:26:48.0
設計波長域でほぼゼロの群遅延分散(GDD)があり、反射ビームの分散を最小化!
『高性能 低GDD 超短パルス用ミラー』は、0°か45°の入射角で高い
反射率が得られるようにデザインされ、ウルトラファストレーザーを用いた
ビームステアリングアプリケーションに好適な製品です。
このミラーは、精密なIBS(イオンビームスパッタリング)蒸着工程を経て
得られた分散補償コーティングを有し、従来の誘電体膜レーザーミラー
よりも低散乱・低吸収特性が得られます。
本ミラーの代表的用途に、フェムト秒レーザーのパルス伝播時での
使用があります。
【特長】
■超短パルスビームステアリング用に高反射率設計
■イオンビームスパッタリングコーティングにより低散乱・低吸収
■設計波長域で0±20fs2までの低GDD
※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
基本情報
【共通仕様】
■基板:Fused Silica(Corning 7980)
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価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。 |
お問い合わせ
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