株式会社エナテック

東京本社

株式会社エナテック-製品カタログ

最終更新日: 2022-12-05 08:54:17.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

カタログ発行日:2020/8/14
細かな仕様は記載しておりませんまた、カタログ以外にも化学製品など取り扱い可能ですのでお問い合わせお待ちしております。
エナテックは、1978年3月30日に有限会社として設立し、2018年で40周年を迎えました。 将来の合弁を前提に、ドイツ連邦共和国アルフレッド・ナイエ・エナテヒニック社(旧ドイツRCA)の要請によって設立いたしましたが、1980年にアルフレッド・ナイエ社がイギリスの電子部品販売業者ユニテック社に買収されたため、合弁の話を解消し、独自の道を歩むことになりました。
その後、半導体材料であるシリコン部門を拡充し、国内外のシリコンメーカー・加工メーカーの協力により、日本のみならず海外市場へも安定的にシリコン材料を供給しています。

シリコンウェーハ、シリコン材料以外にも、半導体用中古装置、ゲルマニウム、サファイア、フェライトコア、a-SiCパウダー、酸化鉄、高純度化学物質等も取り扱っています。設立後40年余り、当社はシリコンウェーハ・シリコン単結晶等の材料分野を中心に半導体業界の一角を支えてまいりました。テストウェーハ・ダミーウェーハや加工品をはじめ各種受託加工など、お客様のご要望に応じ商品を幅広く取り扱っております。
少量からでも対応可能ですので是非お気軽にお問い合わせください。

関連情報

CZ/高抵抗FZ 各種ウェーハ販売(評価・開発・テスト用)
CZ/高抵抗FZ 各種ウェーハ販売(評価・開発・テスト用) 製品画像
CZ ハーフinch〜450mm(プライム/テスト・モニター/ダミーウェハ)
*パーティクル管理されていないものなどもご紹介可能です。
*通常1カセット25枚ですが、在庫状況により少量でも対応可能です。

FZウェーハ2インチ〜8インチ
*センサー向け1万Ωを超えるような高抵抗FZ
*中耐圧のパワーデバイス向けガスドープドシリコン
*高耐圧のパワーデバイス向けNTDシリコン
*太陽電池向けFZシリコン
*通常1カセット25枚ですが、在庫状況により少量でも対応可能です。

多層EPIウェーハ加工
*材料支給も対応可能です。
*数枚から加工可能です。

SiGe Epi(濃度と膜厚によりますが様々に対応可能です)
*~8インチ対応可能です。 
*Ge濃度:ご指定下さい
*基板にSiやSOIも使用可能です。

SOI、SiC、GaAs、GaN、InP、ゲルマニウム、サファイア、ガラス、その他ウェーハも対応可能です。

成膜加工、Si各種加工品(特殊径・特殊厚み)、その他シリコンウェハ以外にも、化合物基板、高純度化学品、a-SiCパウダーなど幅広く取り扱っております。
CZウェーハ エピ受託加工 SiGeエピウェーハ 他
CZウェーハ エピ受託加工 SiGeエピウェーハ 他 製品画像
【特徴】
○実験用に小ロット(25枚)から可能        
○サブウェーハご指定も可能
○エピ厚さ公差:6-10%以内(エピ厚さにより変わります)
○抵抗均一性公差:5-15%以内(抵抗により変わります)

【エピ受託加工】
○直径:76、100、125、150mm
○ドーパント:Boron, Phosphine, Arsenic
○エピ抵抗率:0.1-800 ohm cm
○エピ厚さ:3-150μ

「多層EPIウェーハ加工」
*材料支給も対応可能です。
*数枚から加工可能です。
*基板Si/GaN/InPなど数層積むことも可能です。
*膜厚等の仕様によりバッファー層の有無なども違って参りますのでお問い合わせください。

「SiGe Epiウェーハ」
*濃度と膜厚によりますが様々に対応可能です。
*直径はMAX8インチまで対応可能です。 
*Ge濃度:20%, 60%などご希望の濃度をご指定下さい
*基板にSiやSOIも使用可能です。

●詳しくはお問い合わせ下さい。
1インチ以下~450mmで提供可能 「CZウェーハ」
1インチ以下~450mmで提供可能 「CZウェーハ」 製品画像
【特徴】
○1インチ以下から450mmまで提供可能
○各種成膜加工が可能
○パーティクルグレード・モニターグレード等用途に合わせて紹介可能
○EPI受託加工
〇FZウェーハ
直径30mmから8インチ、0.1 ohmから10k ohm cmを超えるような高抵抗ウェーハを取り扱っております。

〇SOIウェーハ
CZ・FZウェーハを使用した新規作成での対応も可能です。
新規作成の場合,最小枚数は10枚程度からのご提供になります。
直径:3inch-12inch
SOI層:2-200um程度(抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能)
SiO2(酸化膜)層:50nm-2um程度(0.1-10umも対応可能)
支持基板:300-725um程度(抵抗1万Ω以上など高抵抗対応可能)
数量:在庫品の場合は数枚程度から対応可能
*お手持ちの基板をご支給いただきSOIウェーハに加工することも可能です。

〇拡散ウェーハなども対応可能
○半導体製造装置テスト用:モニターウェーハ・ダミーウェーハ
○太陽電池用単結晶シリコンウェーハ・太陽電池用多結晶ウェーハ

●詳しくはお問い合わせ下さい。
FZウェーハ FZシリコン製品 ガスドープドFZシリコン
FZウェーハ FZシリコン製品 ガスドープドFZシリコン 製品画像
【主な仕様】
ガスでドーパントされたFZシリコンになります。

○直径:50mm, 75mm, 100mm, 125mm, 150mm , 200mm
〇抵抗は数ohmから数千程度まで対応可能です
○結晶方位:<100>or<111>(直径による)
○伝導型(ドーパント):P(Boron) or N(Phosphorus)
○抵抗率公差:抵抗率により異なります
○面内抵抗率分布:抵抗率により異なります
○キャリアライフタイム:抵抗率により異なります
○酸素・炭素濃度 :<2.0 × 10(16)atoms/cm3 程度

25枚もしくは在庫状況により小ロットから対応可能です。

●詳しくはお問い合わせください。
FZウェーハ FZシリコン製品 パワーデバイス用NTDシリコン
FZウェーハ FZシリコン製品 パワーデバイス用NTDシリコン 製品画像
【特徴】
○NTDシリコン(中性子照射シリコン)
○抵抗率の均一性に優れている
○電力用サイリスタ(シリコン制御整流器)として使用されている
○半導体パワーデバイスとして一般産業分野から家電分野まで広く利用可能

【仕様】
○直径:50mm, 75mm, 100mm, 125mm, 150mm, 200mm
○結晶方位:<100>or<111>
○伝導型(ドーパント):N(Phosphorus)
○抵抗率:30-500,600 オーム 程度
○抵抗率公差:+/-10% 程度
○面内抵抗率分布:< 3-8% 程度
○キャリアライフタイム:> 200µsec
○酸素濃度:< 2.0 × 10^16 atoms/cm3
○炭素濃度:< 2.0 × 10^16 atoms/cm3

●詳しくはお問い合わせください。
直径30mm程度~8インチまで対応可能 高抵抗FZウェーハ
直径30mm程度~8インチまで対応可能 高抵抗FZウェーハ 製品画像
【特徴】
○直径30mm程度~8インチ対応可能
○10オーム程度から1万Ωを超えるような超高抵抗まで様々に対応可能
○高ライフタイム・低酸素・低炭素
〇赤外線用ウインドウ, フィルター, レンズなども対応可能
〇抵抗帯により太陽電池用途などにも用いられます。

[センサー用高抵抗FZウェーハ]
○パーティクル検査機・IR検査機等に利用可能
〇数千から1万ohmを超えるような高抵抗も可能です。
〇FZ法で製造され不純物が少ない高いライフタイムが特徴です。

[ハイパワーデバイス用FZウェーハ]
○サイリスター・IGBT(>1200V)等に利用可能
○抵抗のバラつきが少ない
〇中性子照射を行っており抵抗のばらつきが非常に少なく抑えれれています。

[中耐圧用FZウェーハ]
○IGBT(>600V)・ダイオード等に利用可能
〇ガスドープで製造されています
[高耐圧用FZウェーハ]
〇高耐圧のIGBTなどに使用される中性子されたシリコンウェーハになります。
〇抵抗のばらつきが少ないことが特徴です。

●詳しくはお問い合わせ下さい。
3インチ~12インチまで対応可能 「SOIウェーハ」
3インチ~12インチまで対応可能 「SOIウェーハ」 製品画像
【SOI特徴】
○3インチ~12インチ対応可能
○少量対応可能
○CZ、FZ対応可能

【エナテック取扱製品】
○CZウェーハ
→国内外1"~450mm(プライム/テスト・モニター/ダミーウェハ)のウェーハ取扱
○FZウェーハ(高抵抗シリコンウェーハ)
→2"~8"(プライム/テスト)の紹介が可能
○各種加工
→成膜加工・シリコン各種加工品(特殊加工・特殊厚み)も対応可能
○その他
→シリコンウェーハの他、化合物半導体、ウェーハ用ケースなど
○LEDライト
→御社のご使用環境に応じて提案可能

●詳しくはお問い合わせ下さい。
3インチ、4インチ、6インチに対応可能 「SOSウェーハ」
3インチ、4インチ、6インチに対応可能 「SOSウェーハ」 製品画像
標準的な主な仕様は下記のようになります。

直径:150mm
エピ厚:0.3um+/-10%
面内均一性 um (%):0.05um(16.7%)
エピ抵抗:>30ohm cm
UVR:<1.0

直径:100mm
エピ厚:0.3um+/-10%
面内均一性 um (%):0.05um(16.7%)
エピ抵抗:>30、5-30、2.5-10 ohm cm
UVR:<1.0

直径:100mm
エピ厚:0.6um+/-10%
面内均一性 um (%):0.09um(15%)
エピ抵抗:>30、5-30、2.5-10 ohm cm
UVR:<0.75

主な仕様は上記になりますがご希望の仕様がある場合はお問い合わせください。
照明器具・インバーター・電源関連等用ソフトフェライトコア
照明器具・インバーター・電源関連等用ソフトフェライトコア 製品画像
コスモフェライト社は1986年創業の従業員300人を擁するソフトフェライトのメーカーで、インドフェライト市場において主導的な立場にあります。
インド国内のみならず世界各国にフェライトコアを販売しております。

2004年:ISO14001取得
2008年:ISO9001取得
2009年:ISO/TS16949取得
EU RoHS:改正RoHS指令付属書II対応

1988年より他社に先駆け、ソフトフェライトコアの輸出を開始し、現在では生産量の約7割を世界へ向け輸出しております。
主にインド、ヨーロッパの大手企業への販売実績がございます。
また最新の設備を保有し、厳格な品質基準、R&Dを自社内で確立し、たゆまぬ品質改良により、高品質のフェライトコアをご提供しております。
お客様との緊密で、長く続くお付き合いを発展させることをモットーとする会社です。

また豊かな経験と技術力、デザインと性能の開発を支える資源により、
貴社向けにカスタマイズされた製品をオンタイムでご提供することを実現しております。
少量サンプルもご提供可能ですので、新規開発品などありましたら是非お問い合わせください。
LED用途に適したフェライトコアCF295
LED用途に適したフェライトコアCF295 製品画像
最新の設備を保有し、厳格な品質基準、R&Dを自社内で確立し、たゆまぬ品質改良により、高品質のフェライトコアをご提供しております。
お客様との緊密で、長く続くお付き合いを発展させることをモットーとする会社です。


照明器具、UPS/インバーター用トランス、誘導加熱装置、高周波トランス、
EMIフィルター、EMC対策用チョークコイル用途等に適しています。
【仕様】
形状)
リング(トロイダル)
UU(水平)(垂直)
EE, EI, I, EC, ETD, EER. EFF, EVD, EP, PQ, PM, POT, ROD, PLANNER

初透磁率)
最大10,000 μiacまで

詳しくは、お問合せもしくは、カタログをご覧下さい。


考古学・地球科学・地質学に中性子放射化分析サービス
考古学・地球科学・地質学に中性子放射化分析サービス 製品画像
主な用途
考古学分野(出土品や遺跡の主成分元素の分析)
宇宙科学分野(隕石の構成元素の分析)
地球環境分野(化石燃料・鉱物・大気浮遊塵の元素分析、植物や土壌に含まれる元素の分析)
医薬品・化粧品(不純物元素混入チェック)
食品(栄養素を構成する元素の割合の分析)
工業・産業分野(例えば高純度Siに含まれる微量の不純物元素の分析)

*分析レポート
分析レポートは、質量分率、不確かさ、及び質量分率を特定できなった場合の検出限界の推定値を含め、編集可能なスプレッドシード(excel形式)でご提供致します。

*分析レポートの納期
A) 分析に長時間の照射が必要な元素:約8-9週間
B及びC) 短時間の照射で分析可能な元素:約2-3週間

*試料に関して
固体及び粉体の形状でご依頼ください。例:鉱物、土壌、食品、生物学的製剤など。容器は硝子の小瓶(鉄やAlの蓋でなく、プラスチックの蓋のもの)又はきちんと密閉できるビニール袋でお送りください。

*試料の処分
原則、試料は照射炉にて廃棄処分致します。

◎詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
中性子放射化分析サービス
中性子放射化分析サービス 製品画像
主な用途
考古学分野(出土品や遺跡の主成分元素の分析)
宇宙科学分野(隕石の構成元素の分析)
地球環境分野(化石燃料・鉱物・大気浮遊塵の元素分析、植物や土壌に含まれる元素の分析)
医薬品・化粧品(不純物元素混入チェック)
食品(栄養素を構成する元素の割合の分析)
工業・産業分野(例えば高純度Siに含まれる微量の不純物元素の分析)

*分析レポート
分析レポートは、質量分率、不確かさ、及び質量分率を特定できなった場合の検出限界の推定値を含め、編集可能なスプレッドシード(excel形式)でご提供致します。

*分析レポートの納期
A) 分析に長時間の照射が必要な元素:約8-9週間
B及びC) 短時間の照射で分析可能な元素:約2-3週間

*試料に関して
固体及び粉体の形状でご依頼ください。例:鉱物、土壌、食品、生物学的製剤など。容器は硝子の小瓶(鉄やAlの蓋でなく、プラスチックの蓋のもの)又はきちんと密閉できるビニール袋でお送りください。

*試料の処分
原則、試料は照射炉にて廃棄処分致します。

◎詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
医学・薬学分野に中性子放射化分析サービス
医学・薬学分野に中性子放射化分析サービス 製品画像
主な用途
考古学分野(出土品や遺跡の主成分元素の分析)
宇宙科学分野(隕石の構成元素の分析)
地球環境分野(化石燃料・鉱物・大気浮遊塵の元素分析、植物や土壌に含まれる元素の分析)
医薬品・化粧品(不純物元素混入チェック)
食品(栄養素を構成する元素の割合の分析)
工業・産業分野(例えば高純度Siに含まれる微量の不純物元素の分析)

*分析レポート
分析レポートは、質量分率、不確かさ、及び質量分率を特定できなった場合の検出限界の推定値を含め、編集可能なスプレッドシード(excel形式)でご提供致します。

*分析レポートの納期
A) 分析に長時間の照射が必要な元素:約8-9週間
B及びC) 短時間の照射で分析可能な元素:約2-3週間

*試料に関して
固体及び粉体の形状でご依頼ください。例:鉱物、土壌、食品、生物学的製剤など。容器は硝子の小瓶(鉄やAlの蓋でなく、プラスチックの蓋のもの)又はきちんと密閉できるビニール袋でお送りください。

*試料の処分
原則、試料は照射炉にて廃棄処分致します。

◎詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
CZウェーハ 成膜加工
CZウェーハ 成膜加工 製品画像
【特徴】
○膜種により2インチから450mmウェーハへの成膜が可能
○テストパターン付ウェーハ(6インチから12インチ)に対応
○レチクルご支給による、露光/エッチングも対応(8インチと12インチ)
○レジスト塗布/露光/エッチングは4インチ~12インチまで対応可能
○バックグラインダー:直径5インチ~12インチ
○ダイシング:直径5インチ~12インチ

【12インチ 対応可能膜種】
○酸化膜系:熱酸化、RTO、LP-TEOS、HDP-USG、P-TEOS、PSG、BPSG
○窒化膜系:DCS-SiN、P-SiN、LP-SiN
○金属膜系:TaN、Ta、Cu、Al、Al-Si、Al-SiーCu、Ni、W、W-Si-Cu
○その他:Poly-Si、A-Si、SiC、Low-k(SiOC系、有機化学系)

●詳しくはお問い合わせ下さい。

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