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【半導体事業】ダイシング工程

最終更新日: 2024-07-23 18:17:24.0
チッピング規格の厳しい製品にはデュアルダイサーによるステップカットも可能です!

半導体事業の『ダイシング工程』についてご紹介します。

超純水を使用して実施。チッピング規格の厳しい製品には
デュアルダイサーによるステップカットも可能です。

ご要望に対応致しますので、お気軽にお問い合わせください。

【特長】
■設備
・Full Autoダイサー:13台
・Semi Autoダイサー:5台
■ウェハサイズ:2~8inch
■ウェハ厚さ:90~725μm(量産スペック)
■チップサイズ:0.5mm口以上

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

基本情報

【ワークサイズ】
<Si(ウェハ)>
■2~3インチ:厚さ100μm~
■4インチ:厚さ100μm~
■5インチ:厚さ100μm~
■6インチ:厚さ100μm~
■8インチ:厚さ100μm~
<SiC>
■2~3インチ:厚さ300μm~
■4インチ:厚さ300μm~
■5インチ:厚さ300μm~
■6インチ:厚さ300μm~

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
用途/実績例 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

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