蒸着処理 一覧

薄膜原料を真空中で加熱・蒸発させ、基材表面で凝縮・固化させることにより、薄膜を形成する技術です。
当社では、フッ素系高分子を原料とし、プロセス全体の最高温度が50℃と低温で処理できることから基材への熱影響を抑えた表面処理を行うことが可能です。