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ALDプロセス用高速高耐久バルブ『TDFシリーズ』

最終更新日: 2023-09-05 09:28:06.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

ALDプロセスに必要な高速開閉、高耐久、耐食性、耐熱性、Cv安定性を兼ね備えた高純度ガス対応ダイヤフラムバルブです。
ALDプロセス用高速高耐久バルブ『TDFシリーズ』は、ALDプロセスに必要な高速開閉、高耐久、耐食性、耐熱性、Cv安定性を兼ね備えた高純度ガス対応ダイヤフラムバルブです。
【製品材質】
■ボディ:SUS316L、SUS316LE(二重溶解材)
■シート:PFA
■ダイヤフラム:コバルト合金

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

関連情報

ALDプロセス用高速高耐久バルブ『TDFシリーズ』
ALDプロセス用高速高耐久バルブ『TDFシリーズ』 製品画像
【その他の特長】
■バルブ応答時間18ms、耐久回数後の応答安定性±2msを実現
(※当社試験方法実績値)
■アクチュエータへの熱伝導を低減する構造を採用し
 最高220℃までの高温流体に使用可能
(※電磁弁・センサ搭載時は最高200℃まで)
■熱影響を考慮した構造及びシート素材の採用により220℃時 Cv0.5を確保
(※Cv値 初期値誤差、使用時変動率 ±5%以内)
■当社独自技術により220℃高温流体で耐久性4,000万回以上
■耐久試験実績値1億回以上達成
(※当社試験実績(試験条件)流体:N2 封入圧:0.25MPa(G)接ガス部温度: 220℃)

※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。
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