高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200) カタログ製品カタログ | カタログ

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200) カタログ

最終更新日: 2024-10-15 13:51:00.0

上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続式常圧CVD(APCVD)装置(12インチウェハ対応)
「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。
ウェハを載せたトレーを連続で搬送させ、下部より加熱しながらディスパージョンヘッド(ガスノズル)下を通過させることで成膜させることで、高スループット(高生産性)を実現しました。
トレー材質にはSiCを採用することで、重金属汚染(メタルコンタミネーション)を最小限にし、また長期的に安定したプロセス性能を得ることが可能となりました。
トレー交換を容易に行える自動交換機能など、メンテナンス性も良好です。
AMAX1200は、12インチまでのウェハに対応し、最大で1時間あたり56枚の成膜が可能です。
●装置サイズ:2165mm(W) x 4788mm(D) x 2250mm(H)
●ガス種: SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2)
●成膜温度: 350～430℃

※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧下さい。

関連情報

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

ウェハを載せたトレーを連続で搬送させ、下部より加熱しながらディスパージョンヘッド(ガスノズル)下を通過させることで成膜させることで、高スループット(高生産性)を実現しました。
トレー材質にはSiCを採用することで、重金属汚染(メタルコンタミネーション)を最小限にし、また長期的に安定したプロセス性能を得ることが可能となりました。
トレー交換を容易に行える自動交換機能など、メンテナンス性も良好です。
AMAX1200は、12インチまでのウェハに対応し、最大で1時間あたり56枚の成膜が可能です。
●装置サイズ:2165mm(W) x 4788mm(D) x 2250mm(H)
●ガス種: SiH4/O2系 (SiH4/PH3/B2H6/O2/N2)
●成膜温度: 350～430℃

※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

お問い合わせ

下記のフォームにお問い合わせ内容をご記入ください。
※お問い合わせには会員登録が必要です。

至急度必須	通常至急
ご要望必須	購入希望見積もり希望カタログ送付希望価格表送付希望連絡希望訪問希望その他
目的必須	新規導入既存入れ替え試作検討情報収集
添付資料
お問い合わせ内容	【ご利用上の注意】お問い合わせフォームを利用した広告宣伝等の行為は利用規約により禁止しております。