上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
カタログ発行日:2023/03/02
半導体産業向け!水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)をプロセス分析計で24時間完全自動測定!
水酸化テトラメチルアンモニウム(TMAH)は、主に集積回路(IC)、プリント基板(PCB)、フラットパネルディスプレイ(LCD)の製造に用いられる
第4級アモニウム塩で、これらのデバイス製造時のフォトリソグラフィ工程で最もよく使用されます。この工程では、フォトレジスト現像液を使用して、基板上にパターンを転写します。半導体産業で使用される薬品は、極めて純粋でなければなりません。なぜなら、微量の汚染物質でさえ、電気的特性に悪影響を及ぼすからです。
現像工程はフォトリソグラフィにおける重要な段階であり、生産効率を上げるためにはこの工程を最適化しなければなりません。このプロセスアプリケーションノートでは、オンラインプロセス滴定により現像液中のTMAH濃度をモニターする方法を紹介します。
関連情報
• 複数の分析法がおこなえ数多くのアプリケーションに対応
• IP66/NEMA 4準拠のエンクロージャーで危険な環境にも対応
• 複数の経路からサンプルを採取して測定
• 高い柔軟性と拡張性
• 特注品ではなく、既製品のため、消耗品やパーツの在庫や交換も安心。
• IP66/NEMA 4準拠のエンクロージャーで危険な環境にも対応
• 高い柔軟性と拡張性
• 特注品ではなく、既製品のため、消耗品やパーツの在庫や交換も安心
• 測定結果やコンディションをモニタリングできるリモート機能
• 最大 5 つのサンプル取り組み経路 インライン分析用の NIR キャビネットごとに設置可能
• 高いサンプル処理能力による 最先端のプロセス分光計
• 危険区域定格 と 防爆電気区域分類で設置可能
• 柔軟なソフトウェア 簡単なプロセス制御
• コンパクトな省スペース設計:326x273 mm
• 工場環境に対応したIP66準拠のハウジング
• 試薬類の消費を最少量化できるオンライン分析計
• イーサーネット及びModbus TCP/IP接続すればリモート操作にも対応。直接USBメモリステックへ出力も可能
• 多用途 – 1回の分析で複数のパラメータを同時測定可能
• 高精度 – 複数種の検出器を用いて、広範な検体の精度の高い分析を実現
• 複数の経路からサンプルを採取して測定
• 自動制御 – 連続溶離液生成装置と組み合わせて、年中無休で無人運転が可能
• 複数の検出器を利用可能 – 伝導度検出、UV/VIS検出、アンペロメトリック検出
滴定、水分測定、イオンクロマトグラフ、電気化学分析(VA/CVS)、酸化安定性試験、pH測定、イオン測定などを行う装置を多数ご用意しています。
世界140ヵ国以上でグループ会社(40社以上)及び特定代理店を通じて事業を展開しており、世界中どこでも現地でサポートいたします。
さらに、出張修理・点検を行っており、修理に必要な部品はほとんど日本国内に在庫を持ち、万一の際の故障修理に対して迅速に対応しております。
・コンパクトな省スペース設計:326x273 mm
・工場環境に対応したIP66準拠のハウジング
・試薬類の消費を最少量化できるオンライン分析計
・イーサーネット及びModbus TCP/IP接続すればリモート操作にも対応。直接USBメモリステックへ出力も可能
・7インチフルカラータッチスクリーン搭載にグラフも表示。修正や変更操作も可能
• 最大5本のプローブでインライン分析が可能
• 途切れのないキャリブレーションを実現する包括的なリファレンスチャンネル
• 自動ラマンシフトキャリブレーションによる高い再現性
• 数秒で得られる測定結果
• 環境にやさしく、コスト削減のための化学物質の使用なし
• 頑丈なNEMA 4X / IP66 準拠
• 最大20流路のオンラインXRF分析が可能
• 高速分析 - 1分以内に結果が得られます非破壊分析 - 液体サンプル中のマグネシウム~ウランまで分析可能(z=12 to 92)
• 1つのプラットフォームで複数の分析技術を使用可能(XRFと滴定、吸光度分析)
お問い合わせ
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