装置仕様:IPA を用いたウエハの洗浄及び乾燥
乾燥対象:6インチ 1カセット相当
シリコン、ガラス、部品等
槽構成:ステンレス製蒸気乾燥槽1層
アルミヒートブロック間接加熱方式
装置寸法:幅1,050(mm)× 奥行1,200(mm)× 高さ2,000(mm)
乾燥対象:6インチ 1カセット相当
シリコン、ガラス、部品等
槽構成:ステンレス製蒸気乾燥槽1層
アルミヒートブロック間接加熱方式
装置寸法:幅1,050(mm)× 奥行1,200(mm)× 高さ2,000(mm)
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