最終更新日:
2022-09-27 23:28:52.0
ヨーロッパ 発の技術から生まれた汎用性の高い装置!実験~量産に幅広く対応可能!!
・ドライエッチング機種
Pishowシリーズ:
シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能;
幅広く温度の工程に対応可能;
エッチングの速度と均一性を精密制御;
BOSOH工程に対応可能
・成膜機種
Shale Cシリーズ:
ICP CVD(誘導結合プラズマCVD)
低温条件(<120℃)で緻密な成膜を実現可能
プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える
高アスペクト比の穴埋めに適用
基本情報
低価格、短納期で様々なニーズに応える
価格帯 | お問い合わせください |
---|---|
納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | HEMT工程のソリューションを提供、SiNx、TiN、pGaN、AlGaN層の特別処理が可能; DRIE技術をベースに、Si、SiCの深掘りに対応; MRAM開発に適用技術ご提供致します |
詳細情報
BOSOH工程に対応可能なICPエッチング装置
SiNx製膜の応力を幅広く制御可能なPE-CVD装置
高アスペクト比の穴埋めに適用なICP-CVD
お問い合わせ
※お問い合わせをすると、以下の出展者へ会員情報(会社名、部署名、所在地、氏名、TEL、FAX、メールアドレス)が通知されること、また以下の出展者からの電子メール広告を受信することに同意したこととなります。
日星産業株式会社