日星産業株式会社

実験用ドライエッチング、成膜装置

最終更新日: 2022-09-27 23:28:52.0
ヨーロッパ 発の技術から生まれた汎用性の高い装置!実験~量産に幅広く対応可能!!

・ドライエッチング機種
Pishowシリーズ:
シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能;
幅広く温度の工程に対応可能;
エッチングの速度と均一性を精密制御;
BOSOH工程に対応可能

・成膜機種
Shale Cシリーズ:
ICP CVD(誘導結合プラズマCVD)
低温条件(<120℃)で緻密な成膜を実現可能
プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える
高アスペクト比の穴埋めに適用

基本情報

低価格、短納期で様々なニーズに応える

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
用途/実績例 HEMT工程のソリューションを提供、SiNx、TiN、pGaN、AlGaN層の特別処理が可能;
DRIE技術をベースに、Si、SiCの深掘りに対応;
MRAM開発に適用技術ご提供致します

詳細情報

PishowD.png
BOSOH工程に対応可能なICPエッチング装置
PECVD.png
SiNx製膜の応力を幅広く制御可能なPE-CVD装置
icp-cvd.png
高アスペクト比の穴埋めに適用なICP-CVD

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