オーエヌ総合電機株式会社

半導体関連装置 「ウェット式エッチング装置」

最終更新日: 2016-01-06 15:54:19.0

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ドラフト構造でクリーンルーム仕様!エッチング処理やレジスト除去する装置

「ウェット式エッチング装置」は、半導体関連で使用される各ウェハーをバスケットに入れ、X-Y-Zロボットにて、エッチング処理やレジスト除去の作業を行います。
発生ガス、及び空気は、薬品系、有機溶剤系に出来るだけ分けた状況での排気が可能。
使用不可となった薬液(フッ酸、 塩化鉄)と、有機溶剤(アセトン)は付設の専用タンクへ一括排出します。
クリーンルームでも使用できるドラフト構造です。

【特徴】
○薬液槽、及び純水槽にはN2ガス散気システムを装備
○バブリングにより各液体の混合と高レベルの洗浄効果を発揮
○薬液槽はすべてPVC製トレイ上に設置
○アセトン槽にはSUS製トレイを設け、液ダレやオーバーフロー、
 排水への薬液混入に対処

詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

【概要】
○処理工程プログラムは、10パターンを任意で設定可能
○複雑な処理工程も、多彩なワークで対応
○自動消火システムと炎検知センサーにより、万が一の発火にも、
 CO2ガス噴射ですばやい消火が可能

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