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強磁性膜・固体電解質成膜ソリューション

研究開発及び小規模生産用イオンビームスパッタリング装置！

最終更新日： 2024-10-09 15:44:42.0

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バックサイドメタライゼーションソリューション『ECLIPSE』

DCパルススパッタリングが可能(導電性ターゲット使用した絶縁膜のリアクティブスパッタ)！

最終更新日： 2024-10-09 15:43:30.0

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ナノマテリアル成膜ソリューション

ナノマテリアル(金属ナノ粒子、ナノワイヤー、ナノシート、ナノエレクトロニクス用材料)用薄膜の成膜に好適！

最終更新日： 2024-10-09 15:44:42.0

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高密度ラジカルクリーニングソリューション

他社の同様の技術に比べ50～100倍ものラジカルを生成し、ダメージのないプロセスを提供！

最終更新日： 2024-10-09 15:44:42.0

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航空宇宙工学・医療用スパッタリングソリューション

航空宇宙工学用光学膜、医療・バイオ用光学膜用ハイエンドスパッタリングプロセスが可能！

最終更新日： 2024-10-09 15:44:42.0

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ダメージフリーイオンビーム成膜ソリューション『QuaZar』

ウェーハステージの傾斜/回転機能により、フィーチャーセッティングが可能！

最終更新日： 2024-10-09 15:44:42.0

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強誘電体イオンビームエッチングソリューション『QuaZar』

不活性ガスArエッチングと反応性ガスによるエンハンスドRIBEが可能！

最終更新日： 2024-10-09 15:44:42.0

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半導体デバイス故障解析ソリューション

ドライエッチングプロセスにおいて、正確な絶縁層及びメタル層の露出が可能！

最終更新日： 2024-10-09 15:44:42.0

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マルチパーパスエッチング・成膜ソリューション

故障解析、MEMS、光MEMS、先端パッケージングなど、幅広い市場向けのエッチング及び成膜が可能！

最終更新日： 2024-10-09 15:44:42.0

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F.A.S.Tソリューション

高い成膜レートを有する高品質な酸化物、窒化物、メタル成膜が可能！

最終更新日： 2024-10-09 15:44:42.0

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バッチ式化合物半導体量産機プラズマCVD・プラズマエッチング装置

フランスで設計・製造された業界最小、ウエハトレイのみ交換で2～12インチウエハ対応、Corial 300・500シリーズ

最終更新日： 2024-09-04 12:03:16.0

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イオンビームエッチング(IBE)・成膜装置(IBD)

R＆D用特殊仕様から量産向けまで対応可能！一般的なグリッドと比較して約3倍の長寿命化

最終更新日： 2024-06-14 15:24:05.0

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プラズマCVD装置『SHUTTLELINE(R)シリーズ』

小型で多用途に応用可能！デバイス評価プロセスにも適応できる高機能装置です

最終更新日： 2024-09-04 15:08:55.0

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オーダーメイド型スパッタリング成膜装置

難しい材料、様々な基板形状、用途にも！非常に幅広い基板サイズに対応可能

最終更新日： 2024-04-02 16:02:40.0

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各種ウェハ高速加熱処理装置『HEATPULSE』

“サセプタ不用"の高スループットSiCウェハアニール！4-8インチウェハに対応

最終更新日： 2024-03-13 12:40:01.0

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卓上タイプエッチング・成膜装置『Plasma POD シリーズ』

教育機関や小規模施設などに！タッチパネルで簡単操作が可能な卓上型システム

最終更新日： 2023-07-13 11:17:45.0

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プラズマ技術～バイオ・医療への応用

a-SiC:H(堅牢膜)等のパッシベーション膜形成が可能！高密度プラズマによる表面除染

最終更新日： 2023-05-19 14:16:14.0

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イオンビーム　エッチング・成膜装置『QuaZar』

総保有コストを減少させる事が可能！最高クラスの均一性とスループットを実現

最終更新日： 2023-05-19 14:48:07.0

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半導体故障解析用プラズマ・エッチング装置

ICの絶縁層を除去！フットプリントが小さく、費用対効果の高いシステム

最終更新日： 2023-05-12 13:09:16.0

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光化合物半導体　プラズマ加工装置

長年の経験と蓄積された加工ノウハウ！化合物半導体加工向けに1300台以上の納入実績

最終更新日： 2023-05-12 18:06:53.0

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プラズマベースの原子層エッチング装置『Takachi ALE』

表面の単原子層のエッチング！エッチング対象物へのダメージを抑える事が出来ます！

最終更新日： 2022-11-24 20:16:38.0

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プラズマ除去装置『HDRF』

フォトレジストや有機ポリマ残渣を低温で除去！当社のプラズマ除去装置をご紹介

最終更新日： 2022-11-14 11:00:51.0

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クライオ・プラズマ・エッチング Takachi ICP Cryo

当社で取り扱う、極低温環境でのエッチング装置をご紹介いたします

最終更新日： 2022-11-14 11:00:50.0

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不良解析エッチング装置『200FA/200R/200I』

剥離処理により、不要箇所を除去！当社で取り扱う不良解析エッチング装置をご紹介

最終更新日： 2022-11-14 11:00:50.0

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プラズマCVD装置『210Dモデル』

φ200mmウェーハまで対応！成膜・エッチングの両用が可能なプラズマCVD装置です

最終更新日： 2024-05-28 17:22:29.0

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プラズマダイシング装置『MDS-100/MDS-300』

複数サイズのウェハに対応！誘導結合プラズマを使用したBosch法によるダイシング

最終更新日： 2022-07-21 15:11:08.0

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成膜装置『Corial 200 Series』

用途に応じてコンフィギュレーションする事ができるプラズマエッチング・成膜装置

最終更新日： 2022-07-21 15:11:08.0

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イオンビームエッチング・成膜装置『QuaZar(TM)』

高いスループットを実現！大面積イオンソースと高度なモーションコントロール

最終更新日： 2022-07-21 15:11:08.0

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プラズマ成膜装置『KOBUS F.A.S.T.(R)』

パルス機能を利用！ALDと同等薄膜を従来のCVDと同じ処理時間で生成する事が可能

最終更新日： 2024-09-04 15:17:48.0

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