■測定レンジ:
32μm~3900μm (n=1, 線形性1um)
16μm~1900μm (n=1, 線形性0.35um)
■分解能:最大1nm(n=1)
■測定周波数: 70kHz
■インターフェイス:Ethernet,RS422,アナログ(2ch)
※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
カタログ発行日:2023/08/14
非接触の光学厚み測定。高精度が求められる半導体ウエハの厚み測定でも適用可能。
新製品『CHRocodile 2LR ver2』は、ウエハやコーティングなど材料厚みを非接触測定できる装置です。前回の『CHRocodile 2LR』と異なる新ディテクタを採用し、約2倍の厚み測定範囲、かつより高精度に測定できるようになりました。インラインでも適用可能で、CHRocodile 2LRは多くのお客様へ実績があります。Si等の半導体ウェハー厚み測定をはじめ、フイルム、樹脂、ガラス、太陽電池等の厚み測定も可能です。干渉膜厚最大16層まで対応しています。
【特長】
■幅広い厚み測定範囲 、様々な材質に対応
豊富なプローブラインナップで、厚みは薄膜(数32um)~厚膜(3900um)までカバー。(高精度な測定帯域は、16~1900um。線形性0.35um)
■高分解能(サブミクロン 最小1nm)
■開発コスト低減、開発納期短縮に貢献できる、
装置組込み用のソフト開発キット(DLLなど)も用意
■半導体業界で豊富な実績
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プレシテック・ジャパン株式会社