REMBE株式会社

圧力解放 | SFD型 引張型ラプチャーディスク

最終更新日: 2021-06-28 12:11:10.0
最先端のCPLテクノロジー活用でダウンタイム削減に貢献

SFD型(S=Sublimated;昇華 FD=Forward)は、様々なプロセス条件での使用に適した多用途ラプチャーディスクです。 REMBE独自開発の「コンツアー・プレシジョン・レーザーリング(CPL) 技術」を用いて製造され、機械的スコアリングが原因の早期破裂、スコア部の腐食、ピンホールのような一般的な産業上の懸念が、 CPL技術により払拭されます。想定外の問題が発生した場合、コストのかかるダウンタイムが生じる可能性があります。CPL技術によってラプチャーディスクは長寿命化され、最も過酷な環境条件の下でも、最高の品質と正確な破裂作動制御が保証されています。

【ご使用のメリット】
★ 破裂高さの低い設計 – 安全弁保護に優れています
★ ガス、二相流、粘着媒体に適しているため、設置可能箇所数を最大限確保できます
★ 幅広いプロセス条件に対応可能 – 同一種類のラプチャーディスクの使用は、取付、仕入れ、保守点検の大幅な利益に繋がります
★ 精密レーザー技術による製造法により、機械的スコアリングによる早期破裂、スコア部の腐食、ピンホールが原因で起きるダウンタイムを削減します

基本情報

【安全弁保護用に改良されたラプチャーディスク – 高さが低い位置で破裂します】

SFD型は破片飛散の無い、破裂の高さが低い設計で、ラプチャーディスク開口によって安全弁の性能に影響を与えず、省スペースが可能です。CPL技術を活用し、材料の結晶構造に影響を与えない精密サブリメーション(昇華)加工が面外周になされ、破裂時の正確なフルボア開口を保証します。CPL技術によるフルボア開口により、ラプチャーディスク破裂後、プロセス媒体の放散が最大限可能となります。

CPL技術によって、プロセスに接する面が滑らかなため、ある媒体には不適合なライニングの必要がありません。プロセス面が平滑なので沈着物が付着せず、重合プロセスに適応た活性の高いプロセス媒体であっても長期にわたる信頼性をもたらします。

SFD型は様々なプロセス条件に適し、費用対効果が高く、高性能です。石油・ガス、化学、石油化学、医薬品、食品業界のような産業分野における、厳しい条件下でのプロセスに最適です。

価格帯 お問い合わせください
納期 お問い合わせください
用途/実績例 ● 安全弁の保護
● 精製所
● 化学工業
● 石油化学工業
● 発電所
● スラリー
● 粘性剤を扱う製造業
● 重合プロセス
● 化学リアクター
● プロセス容器
● 蒸留塔
● ポンプ
● ガス貯蔵
● 熱交換器
● セパレーター
● コンデンサー
など

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