プラズマ処理効果の評価ツールとして、2014年の発売以来、
お客様の用途に応じてラインアップを拡充してきた「PLAZMARK(R)」。
このたびご要望の多かったウエハプロセス向け製品の第1弾として
『PLAZMARK(R) "ウエハ型" セラミックタイプ』が登場!
電子デバイスのエッチングやアッシングなど、
ウエハプロセスの面内分布等の評価にご利用いただけます。
【特長】
■高い耐熱性(400℃)を実現
■クリーン設計でLEDやMEMSなどの工程に好適
■基板はシリコン・サファイアの2種類をご用意
※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
基本情報
PLAZMARK(R) の特長の一つが、プラズマ密度により変色の濃淡が現れることから、
面内分布を簡単に評価できることです。これまで面内分布評価用に「シート型」を
ラインアップしていましたが、基材がフィルムでまた形状も長方形であったため、
ウエハプロセスには不向きでした。
この度、ユーザーがお使いのウエハサイズと同一形状のインジケータを商品化することにより、
普段と同じハンドリングで簡単に、プラズマ処理効果の面内分布を評価することが可能となりました。
※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
価格帯 | お問い合わせください |
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納期 | お問い合わせください |
用途/実績例 | ご興味のある方には、変色確認用のチップサンプルを提供させて頂いております。 ※本製品の変色色材には金属元素が含まれております。 金属元素が不向きなプロセスではご使用頂けません。 詳しくはお問い合わせ下さい。 |
お問い合わせ
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株式会社サクラクレパス PI事業部