お使いのSEMの機能を損なうことなく電子線描画が可能です。
電子線描画装置用パターン発生装置 SPG‐724は、半導体を製造するためのものではなく微細回路・微小光学部品・ナノマシンの研究開発を行うためのものです。
電子線発生と偏向は、SEMそのもので行っています。SPC‐724をSEMに取付けることで、観察用のSEMが描画装置になるわけです。
SEM本体の他に必要なものは、ビームのオンオフを行うブランキング装置、露光量を測定するための電流計、描画パターンをブランキング装置や偏向器におくるパターン発生器とそれらを制御するコンピュータとなります。
【特徴】
○アドオンスタイルのEBリソグラフィ用パターン発生装置
→様々なタイプのSEMに取付けることが可能
○市販CADの採用により浮かんだアイデアをすぐ形にできる使いやすさ
○電子線描画専用機を扱うときのような専門知識/熟練技術が不要
→どなたでも気軽にパターンをつくることができる
○広域エリア(最大5mm)の一括露光を実現
詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【仕様】
[描画基本機能]
○描画方式：ラスタースキャン/ブロックスキャン
○フィールドサイズ
→ラスタースキャン：50/100/200/500μm□
→ブロックスキャン：1mm～5mm□
○描画画素数
→ラスタースキャン：1000²/2000²/4000²/5000²/10000²dot
→ブロックスキャン：1000²dot
○最小アドレスサイズ：5nm/dat
○ドーズタイム：0.5μsec/dot～10msec/dot
[制御系]
○PC(OS)：Microsoft・Windows
○CAD：CANVAS
[設置条件/寸法]
○電源容量：単相100V 50/60Hz 10A
○寸法：約450W×600D×600Hmm
●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
[描画基本機能]
○描画方式：ラスタースキャン/ブロックスキャン
○フィールドサイズ
→ラスタースキャン：50/100/200/500μm□
→ブロックスキャン：1mm～5mm□
○描画画素数
→ラスタースキャン：1000²/2000²/4000²/5000²/10000²dot
→ブロックスキャン：1000²dot
○最小アドレスサイズ：5nm/dat
○ドーズタイム：0.5μsec/dot～10msec/dot
[制御系]
○PC(OS)：Microsoft・Windows
○CAD：CANVAS
[設置条件/寸法]
○電源容量：単相100V 50/60Hz 10A
○寸法：約450W×600D×600Hmm
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