パッシベーションガラスは個別半導体およびバリスタ表面の化学的・機械的保護のために使用します。
パッシベーションガラスは半導体と直に物理的に接触しており、p-n接合を「不動態化する」ことによって、その機能を確実に保護します。同時に、個別デバイスの気密ハウジングとしても頻繁に使用されます。
パッシベーションガラスパウダーは特別に開発された素材組成を特長としています。主要な特性の一つが、アルカリ成分(特にNa+)を最小限に抑えることによって実現した絶縁抵抗の著しい高さです。これは、最高級の素材のみの使用と、特別な製造手順によって確立されます。
完成部品に応力をかけず、亀裂等の発生を防ぐため、パッシベーションガラスとその他の半導体コンポーネントの熱膨張係数を可能な限り一致させることが必要です。弊社は最適な組み合わせが実現できるよう様々なガラス組成を提供しています。
基本情報
様々なタイプの半導体に対応できるようガラス組成の幅広い品揃えがあり、鉛フリーにも対応しています。 最高級の原材料のみの選択、厳しく管理された溶融工程および特殊な粉砕プロセスによりアルカリ成分を最小限に抑えた純度の高い製品になっています。
価格帯 | お問い合わせください |
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用途/実績例 | •焼結ガラスダイオードおよび整流器 •サイリスタやダイオード等のウエハー •高電圧バリスタのグレージング |
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