研究・試作に最適な小型スパッタ装置『VS-R400G』
実験・研究・評価・試作に好適！ガラス、金属などの平板基材に高速、高精度、低ダメージ真空成膜を実現！
最終更新日：
2024-01-11 16:12:30.0
真空成膜装置
真空成膜装置のご紹介です
研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』
独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速、高品質な真空成膜を実現！
最終更新日：
2024-01-19 16:58:41.0
研究・試作に最適な小型スパッタ装置『VS-R400F』
実験・研究・評価・試作に好適！樹脂フィルムや金属箔に高速、高精度、低ダメージ真空成膜を実現！
最終更新日：
2024-01-11 16:09:17.0
研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』
独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品質な真空成膜を実現！
最終更新日：
2024-01-11 16:18:55.0