上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
常識を覆すパフォーマンス「ALD 7」
半導体メーカーのデバイスの歩留まり向上に欠かせない一貫性と耐久性のニーズに対応すべく、超高純度用ダイヤフラム・バルブ「ALD 7」を製品ラインアップに追加しました。
関連情報
『原子層蒸着(ALD)用バルブ』※性能テスト結果付き技術資料進呈
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高純度用途/超高純度用途のニーズにお応えするため、さまざまなサイズ、材質、形状が揃っているSwagelokバルブをご利用ください。
原子層蒸着(ALD)用バルブ ALD20
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半導体デバイスの微細化に欠かせないALDプロセス。ガス供給を制御する高い性能が求められるバルブ。
スウェージロック・ジャパン『ALD20』は大流量・高温用途に対応したALD用バルブの新製品です。
高速開閉・長寿命・高い再現性といった特長を有し、アクチュエーターなど各種オプションも用意。
【半導体業界の課題解決に】ALD(原子層蒸着)用バルブ
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超高純度用Swagelok ALD(原子層蒸着)用バルブは、非常に優れたサイクル・ライフ、高速作動、流量、高温対応性、極めて高い清浄度を備えており、半導体製造アプリケーションにおいて正確なプリカーサーの投与を実現します。
【新製品】超高純度用ダイヤフラム・バルブ「ALD7」
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【仕様】
流量係数(Cv値):0.7
バルブ間の流量変動:±1%
サイクル・ライフにおける流量変動(使用時):2%
開状態・閉状態になるまでのレスポンスタイム:<5ms
アクチュエーターのレスポンスの一貫性:±1ms
アクチュエーターの最高使用温度:150℃
バルブの最高使用温度:200℃
高さ(MSM):75.1mm
フットプリント(MSM):38.1mm
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