上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
ALDバルブ技術のブレイクスルー 大流量。高温。高性能。次世代の半導体製造は、ここから始まる
半導体デバイス製造市場では、効率、一貫性、革新性の向上が求められています。そこでスウェージロックは、原子層蒸着（ALD）用バルブ技術のパイオニアとして、次世代の原子層蒸着プロセス・アプリケーションに必要な精度と性能に対する業界ニーズにお応えするべく、「ALD20 超高純度用バルブ」を開発しました。
【特長】
大流量化／フットプリントの最小化
妥協なき一貫性
卓越した品質／好適なデザイン
【特長】
大流量化／フットプリントの最小化
妥協なき一貫性
卓越した品質／好適なデザイン
関連情報
原子層蒸着(ALD)用バルブ ALD20
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半導体デバイスの微細化に欠かせないＡＬＤプロセス。ガス供給を制御する高い性能が求められるバルブ。
スウェージロック・ジャパン『ＡＬＤ２０』は大流量・高温用途に対応したＡＬＤ用バルブの新製品です。高速開閉・長寿命・高い再現性といった特長を有し、アクチュエーターなど各種オプションも用意。
【半導体業界の課題解決に】ALD（原子層蒸着）用バルブ
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超高純度用Swagelok ALD（原子層蒸着）用バルブは、非常に優れたサイクル・ライフ、高速作動、流量、高温対応性、極めて高い清浄度を備えており、半導体製造アプリケーションにおいて正確なプリカーサーの投与を実現します。
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スウェージロック・ジャパン
