最終更新日:
2023-04-05 09:37:15.0
温度に余裕があるため、温度が上がりづらい場所も含め、完全に不純物の除去が可能
水素分子を結晶粒界に入れないで結晶成長を促す為には、高真空環境下である
必要がありました。またカリウムドープタングステンを2次再結晶成長
させる為にはワークその物を2000℃以上にする必要も同時にありました。
その為、自社で装置そのものから開発。初号機はワーク温度2000℃までを
達成。その後の3号機では2800℃まで達成しました。
当装置は、ハロゲンランプ部品製造のみならず、
様々な超高温処理が必要な製造に利用されています。
特に、医療用部品や、超高圧水銀灯用電極のアルミナなどの強固な
不純物除去には欠かせないものとなっています。
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