上記では、電子ブックの一部をご紹介しております。
高密度グリッド形状のランプ採用により、ワーク全エリアを均一に照射することが可能
デザインルールがナノオーダーに入った半導体、高機能化するFPD、
新素材やバイオテクノロジー、記録媒体、光学部品等これらの
産業における高度な技術を達成するキーワードは「超清浄化」と
言っても過言ではありません。
UVオゾン洗浄は特定波長を持つ紫外線を照射することにより
ワーク表面の有機物汚染の除去、表面改質に非常に有効に作用し
コンタミネーシヨンコントロールに威力を発揮いたします。
新素材やバイオテクノロジー、記録媒体、光学部品等これらの
産業における高度な技術を達成するキーワードは「超清浄化」と
言っても過言ではありません。
UVオゾン洗浄は特定波長を持つ紫外線を照射することにより
ワーク表面の有機物汚染の除去、表面改質に非常に有効に作用し
コンタミネーシヨンコントロールに威力を発揮いたします。
関連情報
UV(紫外線)オゾン洗浄装置| UV-208/UV-312
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■主な特長
・高密度ＵＶグリッドランプを使用。
・ワーク面に対して照射が均一。
・省スペース、コンパクト設計。
・シンプルなユーティリティー。
・両面洗浄、片面洗浄の対応が可能。
・簡単操作、セーフティー機能内蔵。
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株式会社テクノビジョン 本社
